[发明专利]一种光学材料清洗液

权利要求书

1.一种光学材料清洗液，其特征在于，该清洗液包括阴离子表面活性剂、氢键破坏剂、络合剂、醇类、pH调节剂、盐和水；该清洗液的组分重量配比为：

所述的阴离子表面活性剂5-10wt％，氢键抑制剂0.1-0.3wt％，络合剂2-5wt％，醇类7-10wt％、pH调节剂0.1-2wt％，盐0.5-0.6wt％，去离子水余量；

所述氢键破坏剂为尿素、甲酰胺、哌啶甲酰胺、吡啶甲酰胺、氨基苯甲酰胺、硝基苯甲酰胺、苯甲酰胺、盐酸胍、氨基胍中的一种或几种；

所述络合剂为次氮基三乙酸三钠、羟乙基二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、乙二胺四乙酸中的一种或几种；

所述阴离子表面活性剂为磷酸酯系列表面活性剂，包括：脂肪醇醚磷酸酯、酚醚磷酸酯、脂肪醇醚磷酸酯钾盐、酚醚磷酸酯钾盐、异十三醇磷酸酯、异十三醇醚(6)磷酸酯钾盐、月桂基磷酸酯或钾盐中的一种或几种。

2.根据权利要求1所述的光学材料清洗液，其特征在于，所述醇类包括甲醇、乙醇、异丙醇、乙二醇、丙二醇、丙三醇中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的光学材料清洗液，其特征在于，所述pH调节剂选用甲酸、乙酸、盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、氢氧化钾、氢氧化钠、氨、四甲基氢氧化铵、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的光学材料清洗液，其特征在于，所述盐包括氯化钠、硫酸钠、硝酸钠、亚硝酸钠、磷酸钠、碳酸钠、氯化钾、硫酸钾、硫酸氢钾、硝酸钾、亚硝酸钾、磷酸钾、碳酸钾中的一种或几种。