[发明专利]光学装置、曝光装置以及物品的制造方法有效
| 申请号： | 201711361028.8 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN108227401B | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 春见和之 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 孙蕾 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学装置、曝光装置以及物品的制造方法。本发明提供对于降低致动器的线圈的热所引起的反射镜的变形而有利的光学装置。使反射镜变形的光学装置包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 装置 曝光 以及 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学装置，使反射镜变形，所述光学装置的特征在于，包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。
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