[发明专利]光学装置、曝光装置以及物品的制造方法

说明书

本发明涉及光学装置、曝光装置以及物品的制造方法。本发明提供对于降低致动器的线圈的热所引起的反射镜的变形而有利的光学装置。使反射镜变形的光学装置包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。

技术领域

本发明涉及使反射镜变形的光学装置、使用了该光学装置的曝光装置以及物品的制造方法。

背景技术

在被用于半导体器件等的制造的曝光装置中，为了提高分辨率，优选使设置于投影光学系统的反射镜变形来校正投影光学系统的光学像差。另外，在望远镜中，也产生大气的波动等所引起的光学像差，所以优选使设置于望远镜的反射镜变形来校正光学像差。在专利文献1中，提出了使用致动器来使反射镜变形的光学装置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-107658号公报

发明内容

在光学装置中，优选使用具有相互对置的线圈和磁铁的音圈马达(VCM)等致动器。在这样的致动器中不易产生磁滞，所以将磁铁与反射镜接合，控制线圈的电流，从而能够根据线圈的电流值容易地控制反射镜的形状。然而，线圈因电流的供给而放热，所以当该热传递到磁铁时，磁铁发生变形，在安装有磁铁的反射镜的部位有可能产生局部的变形。

因而，本发明的目的在于提供对于降低致动器的线圈的热所引起的反射镜的变形而有利的光学装置。

为了达到上述目的，作为本发明的一个方面的光学装置是使反射镜变形的光学装置，所述光学装置的特征在于，包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。

作为本发明的一个方面的曝光装置是对基板进行曝光的曝光装置，所述曝光装置的特征在于，包括将掩模的图案投影到所述基板的投影光学系统，所述投影光学系统包括使反射镜变形的光学装置，所述光学装置包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。

作为本发明的一个方面的物品的制造方法的特征在于，具有：使用曝光装置对基板进行曝光的工序；以及使在所述工序中被曝光的所述基板显影的工序，所述曝光装置包括将掩模的图案投影到所述基板的投影光学系统，所述投影光学系统包括使反射镜变形的光学装置，所述光学装置包括对所述反射镜施加力的多个致动器，所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，所述部件包括如下部分，该部分的和与所述反射镜的接触面平行的剖面的面积比与所述接触面平行的所述磁铁的剖面的面积小。

本发明的进一步的目的或者其它方面能通过以下参照附图来说明的优选的实施方式变清楚。

根据本发明，例如能够提供对于降低致动器的线圈的热所引起的反射镜的变形而有利的光学装置。

附图说明

图1是示出第1实施方式的光学装置的结构的概略图。

图2是用于说明磁铁的变形所致的反射镜的局部的变形的图。

图3是示出实施例1的部件的结构的图。

图4是示出实施例2的部件的结构的图。

图5是示出实施例3的部件的结构的图。