[发明专利]一种镜片镀膜方法在审

专利信息
申请号: 201711353324.3 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN108048803A 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 吴晓彤 申请(专利权)人: 奥特路(漳州)光学科技有限公司
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/02;G02B1/10
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 翁志霖
地址: 360000 福建省漳*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开一种镜片镀膜方法,其包括以下步骤:步骤1:清洗镜片基体表面并固定在真空腔室内;步骤2:对真空腔室抽真空;步骤3:加硬膜层:步骤4:将加硬处理后的镜片进行退火处理,步骤5:将退火处理后的镜片基片进行离子轰击清洗步骤6:制备变色材料薄膜层,步骤7:制备金属氧化物膜层,步骤8:制备氟化物膜层,步骤9:解除真空取出镜片。本发明的优点在于蒸发材料不受限制,蒸发速率高,而且蒸发速率和电子束聚集调节方便,并且在蒸发材料局部熔化时,蒸发材料不与真空腔室发生方应,保证膜料纯度较高。
搜索关键词: 一种 镜片 镀膜 方法
【主权项】:
1.一种镜片镀膜方法,其特征在于:其包括以下步骤:步骤1:清洗镜片基体表面并固定在真空腔室内;步骤2:对真空腔室抽真空;使得真空度不高于3×10-7 Pa,步骤3:加硬膜层:将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中,保持真空腔室内加硬处理温度为115-125℃,2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化,烘干温度120℃,固化时间60分钟 ;步骤4:退火处理:将加硬处理后的镜片进行退火处理:步骤5:二次清洗:将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内,用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟;步骤6:变色材料薄膜层的制备,保持真空腔室的真空度达到2×10-7Pa,同时保持真空腔室内的温度为50-70℃,启动电子束枪,调整电子束的位置,同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S;调节束流,在加硬膜层的表面上蒸镀一层变色材料薄膜,关闭电子束枪;步骤7:金属氧化物膜层的制备:保持真空腔室的真空度达到2×10-7 Pa,同时保持真空腔室内的温度为50-70℃,启动电子束枪,调整电子束的位置,同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S;调节束流,在减反射膜层的表面上蒸镀金属氧化物膜层,关闭电子束枪;步骤8:氟化物膜层的制备:保持真空腔室的真空度达到3×10-7 Pa,同时保持真空腔室内的温度为50-70℃,启动电子束枪,调整电子束的位置,同时控制第四膜层蒸镀的速率为7.0Å/S;调节束流,在金属氧化物膜层的表面上蒸镀氟化物膜层,关闭电子束枪;步骤9:解除真空:关闭分子泵,开启进气阀,通入空气,取出镜片。
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