[发明专利]一种提高分步重复精缩机制作4寸版曝光面积的方法

摘要

本发明涉及一种提高分步重复精缩机制作4寸版曝光面积的方法，在掩模版的曝光区域内输入曝光面积，并根据曝光面积建立坐标系；对初缩版按X轴和Y轴方向的步距进行曝光，得到精缩版；在已曝光的精缩版最上方一行向上移位，得到向上移位后的坐标；同时在已曝光的精缩版最下方一行向下移位，得到向下移位后的坐标；以向上移位后的坐标为原点，对向上移位后的精缩版按X轴和Y轴方向的步距进行曝光；以向下移位后的坐标为原点，对向下移位后的精缩版按X轴和Y轴方向的步距进行曝光。本发明提高4寸掩摸版制作面积，满足市场需求，增加经济效益，突破了设备的限制，解决了4寸版架和聚焦的限制下Y向长度不能超过76mm的问题。

主权项

1.一种提高分步重复精缩机制作4寸版曝光面积的方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1：在掩模版的曝光区域内输入曝光面积，并根据曝光面积建立坐标系；步骤2：对初缩版按X轴和Y轴方向的步距进行曝光，得到精缩版；步骤3：在已曝光的精缩版最上方一行向上移位，得到向上移位后的坐标；同时在已曝光的精缩版最下方一行向下移位，得到向下移位后的坐标；步骤4：以向上移位后的坐标为原点，对向上移位后的精缩版按X轴和Y轴方向的步距进行曝光；以向下移位后的坐标为原点，对向下移位后的精缩版按X轴和Y轴方向的步距进行曝光。