[发明专利]狭缝可调节的曝光装置有效
| 申请号： | 201711303851.3 | 申请日： | 2017-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN108051984B | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 赵巍;魏小丹;王军才;江俊波;韦永强 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种狭缝可调节的曝光装置，所述曝光装置包括：第一构件、第二构件以及粗调机构，所述第一构件具有第一弧面，所述第二构件具有第二弧面，所述第一弧面与所述第二弧面相对设置且两者之间限定出狭缝，所述粗调机构可用于驱动所述第一弧面和所述第二弧面中的一个运动以调节所述狭缝的宽度。根据本发明的曝光装置，通过粗调机构调整第一构件与第二构件之间的距离，以对曝光装置的照度进行调整，这样不仅可以通过调整狭缝的宽度，以调整曝光装置的照度，均衡照度和解像力，满足产品的解像力要求，而且在调整狭缝的宽度时，无需拆卸曝光装置，节约了产能，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 狭缝 调节 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种狭缝可调节的曝光装置，其特征在于，包括：第一构件，所述第一构件具有第一弧面；第二构件，所述第二构件具有第二弧面，所述第一弧面与所述第二弧面相对设置且两者之间限定出狭缝；以及粗调机构，所述粗调机构可用于驱动所述第一弧面和所述第二弧面中的一个运动以调节所述狭缝的宽度。
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