[发明专利]一种防指纹薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201711241539.6 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109851825B | 公开（公告）日： | 2022-11-18 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 洛阳尖端技术研究院;洛阳尖端装备技术有限公司 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;B29C59/16;C08L83/04 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;卢军峰 |
| 地址： | 471000 河南省洛阳市*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种防指纹薄膜及其制备方法，通过采用飞秒激光刻蚀法对聚二甲基硅氧烷(PDMS)薄膜进行刻蚀，使得PDMS薄膜表面产生微纳粗糙结构，通过对刻蚀时间的调节来控制汗液在PDMS薄膜表面的润湿性，从而实现防指纹的效果。此外，还通过加入疏水材料来改进PDMS薄膜的疏水能力，进一步增强薄膜的防指纹性能。本发明的技术方案在制备过程中不使用任何化学试剂或溶剂，环保无毒。采用本发明的制备方法制备得到的薄膜制备工艺简单，且可以直接贴附于各类基材表面，应用范围较广，可以广泛地应用于电子显示触摸屏、头盔挡风屏幕、眼镜、窗户、精密仪器等表面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 指纹 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种防指纹薄膜的制备方法，其特征在于，包括：将聚二甲基硅氧烷、固化剂混合均匀，得到混合物，倒入基板上，固化，得到聚二甲基硅氧烷薄膜，以及刻蚀所述聚二甲基硅氧烷薄膜，超声，烘干，制得所述防指纹薄膜。
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