[发明专利]用于硅片烧结炉的上料装置

摘要

本发明公开了一种能够准确控制烧结炉入料装置的送料速率的用于硅片烧结炉的上料装置。该用于硅片烧结炉的上料装置，包括硅片转移装置、硅片盒以及运送硅片盒的输送装置；所述输送装置包括支座、输送主辊、输送从动辊，所述输送主辊、输送从动辊均通过支座支撑；所述输送主辊的支座上设置有驱动输送主辊转动的驱动装置；输送主辊和输送从动辊上缠绕有两条平行的传送带；两条平行的传送带之间的间距内设置有升降装置，所述硅片转移装置位于升降装置的正上方；所述硅片转移装置包括壳体、硅片传送带、吸盘；所述壳体上设置有检测硅片盒位于升降装置正上方时制动驱动装置的限位开关。采用该用于硅片烧结炉的上料装置能够保证烧结质量，提高烧结效率。

主权项

1.用于硅片烧结炉的上料装置，其特征在于：包括硅片转移装置(1)、硅片盒(5)以及运送硅片盒(5)的输送装置(2)；所述输送装置(2)包括支座(21)、输送主辊(22)、输送从动辊(23)，所述输送主辊(22)、输送从动辊(23)均通过支座(21)支撑；所述输送主辊(22)的支座(21)上设置有驱动输送主辊(22)转动的驱动装置(25)；所述输送主辊(22)和输送从动辊(23)上缠绕有两条平行的传送带(24)，两条平行的传送带(24)之间具有间距；两条平行的传送带(24)之间的间距内设置有升降装置(3)，所述升降装置(3)具有伸缩杆(31)，所述伸缩杆(31)的顶部与传送带(24)的上表面平齐；所述硅片盒(5)底部设置有伸缩杆(31)可穿过的通孔；所述硅片转移装置(1)位于升降装置(3)的正上方；所述硅片转移装置(1)包括壳体(11)，所述壳体(11)具有下部开口的内腔，所述内腔的下部设置有延伸出内腔的硅片传送带(13)，所述内腔的上方设置有吸盘(12)；所述壳体(11)上设置有检测硅片盒(5)位于升降装置(3)正上方时制动驱动装置(25)的限位开关。