[发明专利]用于硅片烧结炉的上料装置

说明书

本发明公开了一种能够准确控制烧结炉入料装置的送料速率的用于硅片烧结炉的上料装置。该用于硅片烧结炉的上料装置，包括硅片转移装置、硅片盒以及运送硅片盒的输送装置；所述输送装置包括支座、输送主辊、输送从动辊，所述输送主辊、输送从动辊均通过支座支撑；所述输送主辊的支座上设置有驱动输送主辊转动的驱动装置；输送主辊和输送从动辊上缠绕有两条平行的传送带；两条平行的传送带之间的间距内设置有升降装置，所述硅片转移装置位于升降装置的正上方；所述硅片转移装置包括壳体、硅片传送带、吸盘；所述壳体上设置有检测硅片盒位于升降装置正上方时制动驱动装置的限位开关。采用该用于硅片烧结炉的上料装置能够保证烧结质量，提高烧结效率。

技术领域

本发明涉及太阳能电池片的烧结领域，尤其是一种用于硅片烧结炉的上料装置。

背景技术

众所周知的：在太阳电池片的整个生产工艺流程中，扩散、镀膜和烧结三道工序是最主要的，太阳电池片目前采用只需一次烧结的共烧工艺；同时形成上下电极的欧姆接触。

现有技术中太阳能电池片的烧结工艺主要包括三个步骤烘干预热、烧结、冷却；太阳能电池片进行烧结的设备一般采用烧结炉，烧结炉包括烘干区，烧结区和冷却区。

烧结是使晶体硅基片真正具有光电转换功能的至关重要的一步。因此，烧结设备的性能好坏直接影响着电池片的质量。

现有的烧结炉的入料装置放置硅片时，一般通过人工控制放入硅片的速率，因此每块硅片之间的时间间隔不均匀，从而降低了烧结炉的烧结效率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种能够准确控制烧结炉入料装置的送料速率的用于硅片烧结炉的上料装置。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：用于硅片烧结炉的上料装置，包括硅片转移装置、硅片盒以及运送硅片盒的输送装置；

所述输送装置包括支座、输送主辊、输送从动辊，所述输送主辊、输送从动辊均通过支座支撑；所述输送主辊的支座上设置有驱动输送主辊转动的驱动装置；

所述输送主辊和输送从动辊上缠绕有两条平行的传送带，两条平行的传送带之间具有间距；

两条平行的传送带之间的间距内设置有升降装置，所述升降装置具有伸缩杆，所述伸缩杆的顶部与传送带的上表面平齐；所述硅片盒底部设置有伸缩杆可穿过的通孔；

所述硅片转移装置位于升降装置的正上方；所述硅片转移装置包括壳体，所述壳体具有下部开口的内腔，所述内腔的下部设置有延伸出内腔的硅片传送带，所述内腔的上方设置有吸盘；

所述壳体上设置有检测硅片盒位于升降装置正上方时制动驱动装置的限位开关。

优选的，所述传送带的两侧设置有限位挡板。

优选的，所述驱动装置采用电机。

优选的，所述伸缩装置采用液压缸。

进一步的，所述传送带采用橡胶带。

本发明的有益效果是：本发明所述的用于硅片烧结炉的上料装置由于通过硅片转移装置将硅片转运到烧结炉传送装置的入料口，从而可以控制硅片进入到烧结炉的时间间隔，避免了人工操作造成间隔不均的情况。从而便于控制硅片之间的间隔距离，保证硅片的烧结质量，提高烧结炉的烧结效率。

附图说明

图1为本发明实施例中用于硅片烧结炉的上料装置的俯视图；

图2为图1的A-A剖视图；

图中标示：1-硅片转移装置，11-壳体，12-吸盘，2-输送装置，21-支座，22-输送主辊，23-输送从动辊，24-传送带，25-驱动装置，26-限位挡板，3-升降装置，31-伸缩杆，4-底座，5-硅片盒，6-硅片，7-烧结炉传送装置。