[发明专利]一种耐高低温红外光学窗口片在审

专利信息
申请号: 201711201139.2 申请日: 2017-11-27
公开(公告)号: CN109839678A 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 韩崇利 申请(专利权)人: 成都中源红科技有限公司
主分类号: G02B1/111 分类号: G02B1/111;G02B1/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610100 四川省成都市*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及一种耐高低温红外光学窗口片,包括:基板、增透膜、耐高温膜和隔层;所述基板两侧分别沉积有增透膜,所述增透膜设置有4层,每层厚度为30‑40nm,增透膜为HfON膜,其材料为乙烯基倍半硅氧烷;在所述基板处于常温的一侧还沉积有耐高温膜,所述耐高温膜有2层每层厚度为35‑50nm,耐高温膜由气态硅氧烷在PECVD设备上射频沉积而得;所述耐高温膜、增透膜与基板的外侧周边上包绕有隔层;本发明采用双层镀膜结构,用隔层将窗口片及增透膜和耐高低温膜密封,使得窗口片与低温环境隔离,可避免窗口结霜,同时增透膜能增加透光率,增大成像的清晰度,进一步保证实验的成功率。
搜索关键词: 增透膜 耐高温膜 耐高低温 隔层 基板 红外光学窗口 层厚度 窗口片 沉积 乙烯基倍半硅氧烷 低温环境 基板两侧 射频沉积 双层镀膜 硅氧烷 膜密封 透光率 包绕 结霜 成功率 成像 隔离 保证
【主权项】:
1.一种耐高低温红外光学窗口片,其特征在于,包括:基板(1)、增透膜(2)、耐高温膜(3)和隔层(4);所述基板(1)两侧分别沉积有增透膜(2),在所述基板(1)处于常温的一侧还沉积有耐高温膜(3);所述耐高温膜(3)、增透膜(2)与基板(1)的外侧周边上包绕有隔层(4)。
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