[发明专利]一种耐高低温红外光学窗口片

说明书

本发明涉及一种耐高低温红外光学窗口片，包括：基板、增透膜、耐高温膜和隔层；所述基板两侧分别沉积有增透膜，所述增透膜设置有4层，每层厚度为30‑40nm，增透膜为HfON膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷；在所述基板处于常温的一侧还沉积有耐高温膜，所述耐高温膜有2层每层厚度为35‑50nm，耐高温膜由气态硅氧烷在PECVD设备上射频沉积而得；所述耐高温膜、增透膜与基板的外侧周边上包绕有隔层；本发明采用双层镀膜结构，用隔层将窗口片及增透膜和耐高低温膜密封，使得窗口片与低温环境隔离，可避免窗口结霜，同时增透膜能增加透光率，增大成像的清晰度，进一步保证实验的成功率。

技术领域

本发明涉及红外光学器件技术领域，具体涉及一种耐高低温红外光学窗口片。

背景技术

光学窗口是高低温光学试验中必不可少的光学部件，其材质与结构的优劣必将影响光学试验的成败。然而，一般现有的光学窗口在高低温(零摄氏度以下)试验时，很容易由于窗口两侧的温度梯度导致窗口处于常温侧结霜，致使光学成像模糊，导致试验失败。

发明内容

本发明提供如下技术方案：一种耐高低温红外光学窗口片，包括：基板、增透膜、耐高温膜和隔层；所述基板两侧分别沉积有增透膜，在所述基板处于常温的一侧还沉积有耐高温膜；所述耐高温膜、增透膜与基板的外侧周边上包绕有隔层。

进一步，增透膜设置有4层，每层厚度为30-40nm

进一步，耐高温膜有2层每层厚度为35-50nm。

进一步，耐高温膜由气态硅氧烷在PECVD设备上射频沉积而得。

进一步，增透膜为HfON膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷。

本发明采用双层镀膜结构，用隔层将窗口片及增透膜和耐高低温膜密封，使得窗口片与低温环境隔离，可避免窗口结霜，同时增透膜能增加透光率，增大成像的清晰度，进一步保证实验的成功率。

附图说明

图1为一种耐高低温红外光学窗口片的结构示意图。

其中，1、基板；2、增透膜；3、耐高温膜；4、隔层。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细地描述：

实施例1：

本发明提供一种耐高低温红外光学窗口片，包括：基板1、增透膜2、耐高温膜3和隔层4；所述基板1两侧分别沉积有增透膜2，所述增透膜2设置有4层，每层厚度为30nm，增透膜2为HfON膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷；在所述基板1处于常温的一侧还沉积有耐高温膜3，所述耐高温膜3有2层每层厚度为35nm，耐高温膜3由气态硅氧烷在PECVD设备上射频沉积而得；所述耐高温膜3、增透膜2与基板1的外侧周边上包绕有隔层4。

实施例2：

一种耐高低温红外光学窗口片，包括：基板1、增透膜2、耐高温膜3和隔层4；所述基板1两侧分别沉积有增透膜2，所述增透膜2设置有4层，每层厚度为35nm，增透膜2为HfON膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷；在所述基板1处于常温的一侧还沉积有耐高温膜3，所述耐高温膜3有2层每层厚度为43nm，耐高温膜3由气态硅氧烷在PECVD设备上射频沉积而得；所述耐高温膜3、增透膜2与基板1的外侧周边上包绕有隔层4。

实施例3：

一种耐高低温红外光学窗口片，包括：基板1、增透膜2、耐高温膜3和隔层4；所述基板1两侧分别沉积有增透膜2，所述增透膜2设置有4层，每层厚度为40nm，增透膜2为HfON膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷；在所述基板1处于常温的一侧还沉积有耐高温膜3，所述耐高温膜3有2层每层厚度为50nm，耐高温膜3由气态硅氧烷在PECVD设备上射频沉积而得；所述耐高温膜3、增透膜2与基板1的外侧周边上包绕有隔层4。