[发明专利]分离正负离子的装置、成膜设备及腔室清洗方法有效
| 申请号： | 201711187607.5 | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN109841471B | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 王勇飞;兰云峰;王洪彪;王帅伟 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/147 | 分类号： | H01J37/147;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 陶金龙;张磊 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种分离正负离子的装置，用于实现等离子体源中正负离子的分离，包括：绝缘腔体，绝缘腔体顶端与等离子体源连通，且绝缘腔体上设置有相对的第一开口和第二开口；电场产生组件，用于产生方向交替变化的电场，可使正离子和负离子在电场力作用下，交替向绝缘腔体底端运动；磁场产生组件，用于使负离子在洛伦兹力的作用下发生偏转后进入第一开口中或正离子在洛伦兹力的作用下发生偏转后进入第二开口中。本发明可有效避免正负离子产生复合，提高成膜设备的清洗效果和清洗效率。本发明还提供了一种设有分离正负离子的装置的成膜设备及其腔室清洗方法。 | ||
| 搜索关键词： | 分离 正负 离子 装置 设备 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种分离正负离子的装置，用于实现等离子体源中正负离子的分离，其特征在于，包括：绝缘腔体，所述绝缘腔体顶端与所述等离子体源连通，且所述绝缘腔体上设置有相对的第一开口和第二开口；电场产生组件，用于产生方向交替变化的电场，可使正离子和负离子在电场力作用下，交替向所述绝缘腔体底端运动；磁场产生组件，用于使所述负离子在洛伦兹力的作用下发生偏转后进入所述第一开口中或所述正离子在洛伦兹力的作用下发生偏转后进入所述第二开口中。
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