[发明专利]一种配向膜的制备方法及制备装置在审
| 申请号： | 201711177694.6 | 申请日： | 2017-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN107908045A | 公开（公告）日： | 2018-04-13 |
| 发明（设计）人： | 任维 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/13 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种配向膜的制备方法及制备装置，该制备方法包括在基板上形成配向材料层；以第一速度移动基板，使配向材料层被光源发出的第一照射光垂直照射；以第二速度移动基板，使配向材料层被光源发出的第二照射光照射，其中，第二照射光的入射方向与基板具有第一夹角，第一夹角以使配向材料层的入射光与配向材料层的反射光不发生干涉现象。通过该制备方法，能够提升配向膜的配向能力的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种配向膜的制备方法，其特征在于，包括：在基板上形成配向材料层；以第一速度移动所述基板，使所述配向材料层被光源发出的第一照射光垂直照射；以第二速度移动所述基板，使所述配向材料层被所述光源发出的第二照射光照射，其中，所述第二照射光的入射方向与所述基板具有第一夹角，所述第一夹角以使所述配向材料层的入射光与所述配向材料层的反射光不发生干涉现象。
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