[发明专利]快速热处理机台的调机方法有效

专利信息
申请号: 201711127739.9 申请日: 2017-11-15
公开(公告)号: CN107946204B 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 范世炜;张凌越;国子明;姚雷 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种快速热处理机台的调机方法,根据快速热处理机台中热源单元对应照射到的基底上的位置,在所述基底上选取与热源单元的排列方式相匹配的测量点;再根据基底的方块电阻与温度的关系,可以得到所述基底的温度分布情况,进而可直接推断出与测量点相对应的热源单元的温度状况,从而能够直接进行调机,进而避免了使用复杂的公式计算。采用本发明提供的调机方法,所获得的基底温度分布更为均匀准确,进而减少了重复调机次数,降低了快速热处理机台的日常维护工作的难度。
搜索关键词: 快速 热处理 机台 方法
【主权项】:
一种快速热处理机台的调机方法,所述快速热处理机台,包括热源和基底支撑架,其中,所述热源由多个热源单元排列组成,用于提供加热温度,所述基底支撑架正对所述热源,用于支撑并固定基底,其特征在于,所述调机方法包括:利用所述快速热处理机台对基底进行加热;提供一方块电阻测量机台,并在所述基底上选取多个测量点,以利用所述方块电阻测量机台测量所述基底上的多个测量点的方块电阻;其中,根据多个所述热源单元对应照射到的所述基底上的位置,确定所述多个测量点的位置,以使每一所述测量点与对应位置的至少一个所述热源单元相对应;以及,根据得到的所述基底上的多个测量点的方块电阻,调整与所述测量点相对应的所述热源单元的温度。
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