[发明专利]单层MoS2同质结、光探测器及其制备方法、电子元件在审

专利信息
申请号: 201711075002.7 申请日: 2017-11-03
公开(公告)号: CN109216483A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 翟俊宜;张珂 申请(专利权)人: 北京纳米能源与系统研究所
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/103;H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种单层MoS2同质结、光探测器及其制备方法、电子元件,该单层MoS2同质结包含:n型MoS2和相邻的p型掺杂MoS2,二者构成p‑n同质结;其中,该p型掺杂MoS2是由单层MoS2薄膜经过选区p型离子掺杂得到的。在不引入新材料的前提下,利用简单的化学掺杂方式构造同质p‑n结,可以有效提高光生电子空穴分离效率和传输速度,提升由其制备的光探测器的响应度,具有工艺简单,低功耗等优点,还可以应用于柔性整流二极管、开关二极管、太阳能电池等电子元件中,在柔性传感、医疗检测、可穿戴器件方面具有良好的应用前景。
搜索关键词: 同质结 单层 光探测器 制备 空穴 开关二极管 太阳能电池 整流二极管 方式构造 分离效率 光生电子 化学掺杂 医疗检测 低功耗 可穿戴 响应度 传感 同质 薄膜 应用 选区 传输 引入
【主权项】:
1.一种单层MoS2同质结,包含:n型MoS2和相邻的p型掺杂MoS2,二者构成p‑n同质结;其中,所述p型掺杂MoS2是由单层MoS2薄膜经过选区p型离子掺杂得到的。
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