[发明专利]单层MoS2同质结、光探测器及其制备方法、电子元件在审
申请号: | 201711075002.7 | 申请日: | 2017-11-03 |
公开(公告)号: | CN109216483A | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 翟俊宜;张珂 | 申请(专利权)人: | 北京纳米能源与系统研究所 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/103;H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种单层MoS2同质结、光探测器及其制备方法、电子元件,该单层MoS2同质结包含:n型MoS2和相邻的p型掺杂MoS2,二者构成p‑n同质结;其中,该p型掺杂MoS2是由单层MoS2薄膜经过选区p型离子掺杂得到的。在不引入新材料的前提下,利用简单的化学掺杂方式构造同质p‑n结,可以有效提高光生电子空穴分离效率和传输速度,提升由其制备的光探测器的响应度,具有工艺简单,低功耗等优点,还可以应用于柔性整流二极管、开关二极管、太阳能电池等电子元件中,在柔性传感、医疗检测、可穿戴器件方面具有良好的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 同质结 单层 光探测器 制备 空穴 开关二极管 太阳能电池 整流二极管 方式构造 分离效率 光生电子 化学掺杂 医疗检测 低功耗 可穿戴 响应度 传感 同质 薄膜 应用 选区 传输 引入 | ||
【主权项】:
1.一种单层MoS2同质结,包含:n型MoS2和相邻的p型掺杂MoS2,二者构成p‑n同质结;其中,所述p型掺杂MoS2是由单层MoS2薄膜经过选区p型离子掺杂得到的。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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