[发明专利]光掩模及光掩模承载平台的维护方法

摘要

本发明公开一种光掩模及光掩模承载平台的维护方法，该光掩模可置放于曝光装置中的光掩模承载平台上，此光掩模包括一基板以及一反射结构。基板包括一主表面与至少一侧壁，且主表面与侧壁相接，其中主表面包括一图案区以及一周边区，周边区设置于图案区的一外侧。反射结构至少设置于侧壁表面或设置于主表面的周边区。

主权项

1.一种光掩模，该光掩模可置放于一曝光装置中的一光掩模承载平台上，该光掩模包括：基板，包括一主表面与至少一侧壁，该主表面与该侧壁相接，其中该主表面包括：图案区；以及周边区，设置于该图案区的一外侧；以及反射结构，至少设置于该侧壁表面或设置于该主表面的该周边区。