[发明专利]光掩模及光掩模承载平台的维护方法

权利要求书

1.一种光掩模承载平台的维护方法，包括：

提供一光掩模，置放于一曝光装置中的一光掩模承载平台上，并以该光掩模承载平台上的一固定元件将该光掩模固定于该光掩模承载平台上，其中该光掩模承载平台为可移动式平台，而该光掩模包括：

基板，包括一主表面与至少一侧壁，该主表面与该侧壁相接，其中该主表面包括：

图案区；以及

周边区，设置于该图案区的一外侧；以及

反射结构，至少设置于该侧壁表面或设置于该主表面的该周边区；进行一第一检测步骤，移动该光掩模承载平台，并通过一激光光束照射该反射结构以测量该光掩模的一位置信息；以及

进行一确认步骤，由该位置信息判定该光掩模在该光掩模承载平台上是否发生位移，当该光掩模发生位移时，则判定该固定元件的效能不合格，以及当该光掩模未发生位移时，则判定该固定元件的效能合格，

在该曝光装置进行曝光制作工艺并发现曝光失败时进行该维护方法，且该维护方法另包括先对该光掩模承载平台上的该固定元件进行清洁，才提供该光掩模至该光掩模承载平台上并进行该第一检测步骤以及该确认步骤。

2.如权利要求1所述的光掩模承载平台的维护方法，其中该固定元件包括一真空吸引垫(vacuum pad)。

3.如权利要求1所述的光掩模承载平台的维护方法，其中当该固定元件的效能合格时，提供一产品光掩模并以该产品光掩模进行曝光。

4.如权利要求1所述的光掩模承载平台的维护方法，其中当该固定元件的效能不合格时，对该固定元件进行清洁，以及在清洁之后再次提供该光掩模并进行该第一检测步骤与该确认步骤。

5.如权利要求4所述的光掩模承载平台的维护方法，其中再次进行该确认步骤后判定该固定元件的效能为合格时，提供一预修保养(preventive maintenance，PM)光掩模进行一第二检测步骤，以测定经该曝光装置所形成的一曝光图案是否发生变形(distortion)。

6.如权利要求1所述的光掩模承载平台的维护方法，其中该第一检测步骤包括利用一干涉计通过该激光光束与所对应的该反射结构测量该光掩模的该位置信息。