[发明专利]纳米压印模板及其制作方法和应用在审

专利信息
申请号: 201711043937.7 申请日: 2017-10-31
公开(公告)号: CN107643652A 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 杨勇;崔宏青 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;B82Y40/00
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 代理人: 孙伟峰
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种纳米压印模板,其包括模板主体、设置在模板主体上的若干光刻胶微结构、以及包覆在光刻胶微结构外层的氟橡胶聚合物层;其中,氟橡胶聚合物层与模板主体之间具有键结作用,以使氟橡胶聚合物层固定连接在模板主体的表面。根据本发明的纳米压印模板不仅可对其中的光刻胶微结构起到保护作用,以防止该纳米压印模板在使用过程中发生形变,从而提高纳米压印的工艺品质;而且能够改善该纳米压印模板压印表面的耐油性和耐腐蚀性,使其表面具有更低的表面能,从而在压印使用过程中可有效改善脱胶问题。本发明还公开了上述纳米压印模板的制作方法及其在制作微结构基板中的应用,该应用方法可确保所形成的微结构基板的微结构尺寸及形状。
搜索关键词: 纳米 压印 模板 及其 制作方法 应用
【主权项】:
一种纳米压印模板,其特征在于,包括模板主体、设置在所述模板主体上的若干光刻胶微结构、以及包覆在所述光刻胶微结构外层的氟橡胶聚合物层;其中,所述氟橡胶聚合物层与所述模板主体之间具有键结作用,以使所述氟橡胶聚合物层固定连接在所述模板主体的表面。
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