[发明专利]纳米压印模板及其制作方法和应用

权利要求书

1.一种纳米压印模板，其特征在于，包括模板主体、设置在所述模板主体上的若干光刻胶微结构、以及包覆在所述光刻胶微结构外层的氟橡胶聚合物层；其中，所述氟橡胶聚合物层与所述模板主体之间具有键结作用，以使所述氟橡胶聚合物层固定连接在所述模板主体的表面。

2.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述氟橡胶聚合物层的厚度为50nm～100nm。

3.根据权利要求1或2所述的纳米压印模板，其特征在于，所述氟橡胶聚合物层的材料具有如式1所示的结构：

4.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述氟橡胶聚合物层具有网状结构。

5.一种纳米压印模板的制作方法，其特征在于，包括步骤：

S1、在模板主体上涂覆光刻胶层，并对所述光刻胶层进行显影蚀刻处理，在所述模板主体上形成若干光刻胶微结构；

S2、将具有所述光刻胶微结构的模板主体浸入含有三甲基三(3-氟丙基)环三硅氧烷和四甲基四乙烯基环四硅氧烷的有机溶液中，在催化剂的作用下，所述三甲基三(3-氟丙基)环三硅氧烷和所述四甲基四乙烯基环四硅氧烷发生催化聚合反应，在所述光刻胶微结构外层包覆形成氟橡胶聚合物层；其中，所述氟橡胶聚合物层通过键结作用固定连接在所述模板主体的表面。

6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述氟橡胶聚合物层的厚度为50nm～100nm。

7.根据权利要求5或6所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括步骤：

S3、对具有所述氟橡胶聚合物层的模板主体进行硫化处理，使所述氟橡胶聚合物层形成网状结构。

8.根据权利要求5或6所述的制作方法，其特征在于，所述氟橡胶聚合物层的材料具有如式1所示的结构：

9.一种微结构基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：

Q1、在压印基板上涂覆压印胶层；

Q2、在所述压印胶层上涂覆聚四氟乙烯粉末层，所述聚四氟乙烯分膜层经煅烧、冷却处理，在所述压印胶层上形成隔离层；

Q3、采取如权利要求1-4任一所述的纳米压印模板在所述隔离层上进行压印工艺，在所述压印基板上形成掩膜；

Q4、蚀刻未被所述掩膜遮掩的压印基板，并去除所述掩膜，形成微结构基板。

10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述步骤Q2的具体方法包括：

在所述压印胶层上喷涂厚度为10nm～30nm的聚四氟乙烯粉末层；

将所述聚四氟乙烯分膜层在200℃～250℃下煅烧，并经冷却处理，在所述压印胶层上形成所述隔离层。