[发明专利]一种改善面板外围TITO残留的方法及光罩有效
| 申请号： | 201711043810.5 | 申请日： | 2017-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN107643657B | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 曾霜华 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人： | 潘中毅;熊贤卿 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光罩，设置于一面板上方；面板上设有平坦层，且平坦层上有多个沟槽，平坦层上方涂抹有一层TITO；光罩设有全透光区、半透光区和不透光区；全透光区分别设置于面板显示区外围所对应沟槽的正上方；半透光区分别设置于面板显示区所对应沟槽的正上方；不透光区分别设置于面板所对应除沟槽之外的每一个地方的正上方。全透光区导引具有预设光强的光线曝光并去除干净显示区外围每一沟槽内的TITO；半透光区虽减弱该预设光强光线的强度，但也曝光并去除干净显示区上每一沟槽内的TITO；而不透光区阻挡该预设光强的光线避免曝光TITO。实施本发明，能够改善在面板外围区有TITO残留的现象，从而提高抗静电等信赖性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 面板 外围 tito 残留 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光罩，其设置于一面板(2)上方；其中，所述面板(2)上设有平坦层(21)，且所述平坦层(21)上蚀刻有多个开口向上的沟槽(L)，并在所述平坦层(21)上方涂抹有一层顶部铟锡氧化物(22)；所述光罩上设有全透光区(11)、半透光区(12)和不透光区(13)；其特征在于，所述全透光区(11)分别设置于所述面板(2)显示区外围(B)所对应平坦层(21)上每一个沟槽(L)的正上方；所述半透光区(12)分别设置于所述面板(2)显示区(A)所对应平坦层(21)上每一个沟槽(L)的正上方；所述不透光区(13)分别设置于所述面板(2)显示区(A)及显示区外围(B)所对应平坦层(21)上除所述多个沟槽(L)之外的每一个地方的正上方；其中，所述全透光区(11)直接导引具有预设光强的光线曝光并去除干净所述面板(2)显示区外围(B)所对应平坦层(21)上每一沟槽(L)内的顶部铟锡氧化物；所述半透光区(12)减弱所述具有预设光强的光线的强度至一定程度后曝光并去除干净所述面板(2)显示区(A)所对应平坦层(21)上每一沟槽(L)内的顶部铟锡氧化物；所述不透光区(13)阻挡所述具有预设光强的光线避免曝光所述面板(2)显示区(A)及显示区外围(B)所对应平坦层(21)上除所述多个沟槽(L)之外的每一个地方的顶部铟锡氧化物(22)。
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