[发明专利]一种可降低杂质的硫酸庆大霉素制备方法

摘要

本发明公开了一种可降低杂质的硫酸庆大霉素制备方法，能够明显降低硫酸庆大土霉素产品的杂质，符合《中国药典》（2015版）的要求，且生产工艺简单易操作；本发明与现有技术区别在于以下三点孢子斜面培养基中添加了0.001%三磷酸腺苷和0.001%甘氨酸；种子培养基中添加了0.001%三磷酸腺苷和0.001%甘氨酸；发酵培养基中添加了0.003%三磷酸腺苷和0.003%甘氨酸；改进前生产的硫酸庆大霉素产品其产品总杂＞4%，西索米星＞1.5%；本发明生产的硫酸庆大霉素产品其产品总杂＜4%，西索米星＜1.5%，小诺霉素（小诺米星）＜3%。

主权项

硫酸庆大霉素的制备方法，其特征在于，其具体包括以下步骤：1）取庆大霉素沙土孢子置于孢子斜面培养基上进行孢子培养，培养温度为36℃，培养时间为10天，得到斜面培养后的庆大霉素孢子；2）将步骤1）中得到的斜面培养后的庆大霉素孢子进行摇瓶培养，摇瓶培养的孢子接入量为：孢子斜面挖取0.25cm2接入一个摇瓶，培养温度为36℃，培养时间为42小时，得到庆大霉素摇瓶菌丝；3）将步骤2）得到的庆大霉素摇瓶菌丝置于种子培养基上进行种子培养，种子培养的接入量为：庆大霉素摇瓶菌丝按种子培养基体积的千分之二接入摇瓶种子，培养温度为36℃，培养时间为48小时，得到庆大霉素种子培养物；4）将步骤3）得到的庆大霉素种子培养物置于繁殖罐中进行扩大培养，庆大霉素种子培养物接入量为扩大培养基体积的20%，培养温度为36℃，培养时间为42小时，得到庆大霉素繁殖培养物；5）将步骤4）得到的庆大霉素繁殖培养物置于发酵培养基上进行发酵，庆大霉素繁殖培养物的接入量为发酵培养基体积的20%，发酵温度为34℃，发酵时间为120小时，得到庆大霉素发酵产物；6）将步骤5）得到的庆大霉素发酵产物进行酸化处理至pH值为2‑3，得到庆大霉素酸化液；7）将步骤6）得到的庆大霉素酸化液进行中和处理，处理后得到pH值为6.8的庆大霉素溶液；8）将步骤7）得到的庆大霉素溶液以732树脂进行吸附处理，得到吸附后庆大霉素溶液；9）将步骤8）得到的吸附后庆大霉素溶液上柱去除Ca2+、Mg2+、Cl‑1，得到去除离子的庆大霉素溶液；10）将步骤9）得到的去除离子的庆大霉素溶液通过饱和树脂后以质量百分含量为4.5%的氨水进行解析，得到庆大霉素解析液；11）将步骤10）得到的庆大霉素解析液以711树脂进行脱色，得到庆大霉素脱色液；12）将步骤11）得到的庆大霉素脱色液以薄膜进行浓缩，得到庆大霉素浓缩液；13）将步骤12）得到的庆大霉素浓缩液加入硫酸后制得硫酸庆大霉素；14）将步骤13）得到硫酸庆大霉素通过喷雾干燥制得硫酸庆大霉素成品。