[发明专利]阴影深度偏移的处理方法及装置有效

专利信息
申请号: 201711024877.4 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN107808410B 公开(公告)日: 2021-04-27
发明(设计)人: 唐邵 申请(专利权)人: 网易(杭州)网络有限公司
主分类号: G06T15/50 分类号: G06T15/50;G06T15/80
代理公司: 北京博浩百睿知识产权代理有限责任公司 11134 代理人: 宋子良
地址: 310000 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请公开了一种阴影深度偏移的处理方法及装置。该方法包括:获取目标参数,其中,目标参数至少包括:夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸,其中,夹角为光源方向与平面的法线的夹角;基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量;基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量;对阴影贴图深度的像素添加倾斜偏移量和常量偏移量,得到阴影贴图结果。通过本申请,解决了相关技术中为场景中物件增加阴影时,存在阴影深度偏移的问题。
搜索关键词: 阴影 深度 偏移 处理 方法 装置
【主权项】:
一种阴影深度偏移的处理方法,其特征在于,包括:获取目标参数,其中,所述目标参数至少包括:夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸,其中,所述夹角为光源方向与平面的法线的夹角;基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量;基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量;对阴影贴图深度的像素添加所述倾斜偏移量和所述常量偏移量,得到阴影贴图结果。
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