[发明专利]阴影深度偏移的处理方法及装置

权利要求书

1.一种阴影深度偏移的处理方法，其特征在于，包括：

获取目标参数，其中，所述目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，所述夹角为光源方向与平面的法线的夹角；

基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；

基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；

对阴影贴图深度的像素添加所述倾斜偏移量和所述常量偏移量，得到阴影贴图结果；

其中，基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量包括：

基于所述夹角的余弦值计算光照偏移量；

基于所述阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；

基于所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；

基于所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量；

基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量包括：

基于所述阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；

基于所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；

基于所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量包括：

获取第一预设系数；

基于所述第一预设系数、所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算所述倾斜偏移量。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量包括：

获取第二预设系数；

基于所述第二预设系数、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算所述常量偏移量。

4.一种阴影深度偏移的处理装置，其特征在于，包括：

获取单元，用于获取目标参数，其中，所述目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，所述夹角为光源方向与平面的法线的夹角；

第一计算单元，用于基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；

第二计算单元，用于基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；

处理单元，用于对阴影贴图深度的像素添加所述倾斜偏移量和所述常量偏移量，得到阴影贴图结果；

其中，所述第一计算单元包括：

第一计算模块，用于基于所述夹角的余弦值计算光照偏移量；

第二计算模块，用于基于所述阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；

第三计算模块，用于基于所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；

第四计算模块，用于基于所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量；

所述第二计算单元包括：第五计算模块，用于基于阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；第六计算模块，用于基于单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；第七计算模块，用于基于阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述第四计算模块包括：

第一获取子模块，用于获取第一预设系数；

第一计算子模块，用于基于所述第一预设系数、所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算所述倾斜偏移量。

6.一种存储介质，其特征在于，所述存储介质包括存储的程序，其中，所述程序执行权利要求1至3中任意一项所述的阴影深度偏移的处理方法。

7.一种处理器，其特征在于，所述处理器用于运行程序，其中，所述程序运行时执行权利要求1至3中任意一项所述的阴影深度偏移的处理方法。