[发明专利]静态随机存取存储器单元阵列及其形成方法有效
| 申请号： | 201710963096.5 | 申请日： | 2017-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN109148451B | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 黄俊宪;郭有策;王淑如 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/11 | 分类号： | H01L27/11 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种静态随机存取存储器单元阵列及其形成方法。该形成静态随机存取存储器单元阵列的方法包含有下述步骤。首先，图案化而形成多个鳍状结构于一基底上，其中此些鳍状结构包含多个主动鳍状结构以及多个牺牲鳍状结构，各通道晶体管(PG FinFET)与对应的一降压晶体管(PD FinFET)至少共享一主动鳍状结构，在一存储器单元中二相邻的升压晶体管(PU FinFET)跨设的二主动鳍状结构之间设置有至少一牺牲鳍状结构。接着，移除此些牺牲鳍状结构的至少一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 静态 随机存取存储器 单元 阵列 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成静态随机存取存储器(static random‑access memory,SRAM)单元阵列的方法，包含有：图案化而形成多个鳍状结构于一基底上，其中该些鳍状结构包含多个主动鳍状结构以及多个牺牲鳍状结构，各通道晶体管(PG FinFET)与对应的一降压晶体管(PD FinFET)至少共享一该主动鳍状结构，在一存储器单元中二相邻的升压晶体管(PU FinFET)跨设的该二主动鳍状结构之间设置有至少一该牺牲鳍状结构；以及移除该些牺牲鳍状结构的至少一部分。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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