[发明专利]镀膜设备有效
| 申请号： | 201710911925.5 | 申请日： | 2017-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN107641787B | 公开（公告）日： | 2019-07-19 |
| 发明（设计）人： | 林意惠 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;祁建国 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种镀膜设备，包含磁性装置以及磁阻装置。磁性装置包含多个磁力元件。此些磁力元件形成至少一第一磁力区与至少一第二磁力区，且第一磁力区的磁力小于第二磁力区的磁力。磁阻装置位于磁性装置与待镀物之间。磁阻装置包含至少一第一磁阻部与至少一第二磁阻部。第一磁阻部对应于第一磁力区，且第二磁阻部对应于第二磁力区。第一磁组部的磁阻能力小于第二磁阻部的磁阻能力。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜设备，其特征在于，包含：一磁性装置，包含多个磁力元件，该些磁力元件形成至少一第一磁力区与至少一第二磁力区，其中该第一磁力区的磁力小于该第二磁力区的磁力；一磁阻装置，位于该磁性装置与一待镀物之间，该磁阻装置包含至少一第一磁阻部与至少一第二磁阻部，该至少一第一磁阻部对应于该至少一第一磁力区，且该至少一第二磁阻部对应于该至少一第二磁力区，其中该第一磁阻部的磁阻能力小于该第二磁阻部的磁阻能力；一掩膜板，对应于该磁性装置设置并且位于该磁阻装置的下方；一镀膜材料源对应于该磁性装置设置并且位于该掩膜板的下方；以及一调控装置，耦接于该磁阻装置。
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