[发明专利]镀膜设备有效
| 申请号： | 201710911925.5 | 申请日： | 2017-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN107641787B | 公开（公告）日： | 2019-07-19 |
| 发明（设计）人： | 林意惠 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;祁建国 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜 设备 | ||
1.一种镀膜设备，其特征在于，包含：
一磁性装置，包含多个磁力元件，该些磁力元件形成至少一第一磁力区与至少一第二磁力区，其中该第一磁力区的磁力小于该第二磁力区的磁力；
一磁阻装置，位于该磁性装置与一待镀物之间，该磁阻装置包含至少一第一磁阻部与至少一第二磁阻部，该至少一第一磁阻部对应于该至少一第一磁力区，且该至少一第二磁阻部对应于该至少一第二磁力区，其中该第一磁阻部的磁阻能力小于该第二磁阻部的磁阻能力；
一掩膜板，对应于该磁性装置设置并且位于该磁阻装置的下方；
一镀膜材料源对应于该磁性装置设置并且位于该掩膜板的下方；以及
一调控装置，耦接于该磁阻装置。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，该至少一第一磁阻部的数量为多个，各该第一磁阻部具有至少一通孔。
3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，各该通孔的宽度为各该磁力元件的宽度的0.2倍至0.25倍。
4.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，该些磁力元件以阵列形式排列而形成多个第一交界处以及多个第二交界处，该些第一交界处的延伸方向不同于该些第二交界处的延伸方向，该些通孔分别对应该些第一交界处，该些通孔彼此平行设置。
5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，各该第一交界处的长度大于各该第二交界处的长度。
6.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，该至少一第一磁阻部的数量为多个，各该第一磁阻部的厚度小于该至少一第二磁阻部的厚度。
7.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，该些磁力元件以阵列形式排列而形成多个第一交界处以及多个第二交界处，该些第一交界处的延伸方向不同于该些第二交界处的延伸方向，该至少一第一磁阻部的数量为多个，且该些第一磁阻部分别对应该些第一交界处，该些第一磁阻部彼此平行设置。
8.根据权利要求7所述的镀膜设备，其特征在于，各该第一交界处的长度大于各该第二交界处的长度。
9.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，该至少一第一磁阻部以及该至少一第二磁阻部的数量均为多个，该些第一磁阻部以及该些第二磁阻部为交错排列。
10.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，该至少一第一磁阻部位在该至少一第二磁阻部的外围。
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