[发明专利]一种超精细纳米纹玻璃模具制备方法在审
| 申请号： | 201710825833.5 | 申请日： | 2017-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN107450282A | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 金烈;李元;葛秀彬 | 申请（专利权）人： | 深圳市锦瑞新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市兰锋知识产权代理事务所(普通合伙)44419 | 代理人： | 曹明兰 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超精细纳米纹玻璃模具制备方法，其包括有如下步骤步骤S1，准备透明基材，制备用于形成精细纹理的模版；步骤S2，利用涂布设备在透明基材表面涂设光阻剂；步骤S3，利用烘干设备对透明基材进行烘烤；步骤S4，将模板叠放于透明基材的光阻剂胶层上，利用曝光设备进行曝光处理；步骤S5，将曝光后的透明基材放置于显影机中进行显影和定影处理；步骤S6，对定影后的透明基材进行清洗、干燥处理。本发明具有加工效率高、成品率高、工艺简单、易于实现等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 精细 纳米 玻璃 模具 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种超精细纳米纹玻璃模具制备方法，其特征在于，包括有如下步骤：步骤S1，准备透明基材，制备用于形成精细纹理的模版；步骤S2，利用涂布设备在透明基材表面涂设光阻剂；步骤S3，利用烘干设备对透明基材进行烘烤；步骤S4，将模板叠放于透明基材的光阻剂胶层上，利用曝光设备进行曝光处理；步骤S5，将曝光后的透明基材放置于显影机中进行显影和定影处理；步骤S6，对定影后的透明基材进行清洗、干燥处理。
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