[发明专利]一种超精细纳米纹玻璃模具制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及模具加工方法，尤其涉及一种超精细纳米纹玻璃模具制备方法。

背景技术

现有技术中，要在玻璃表面上成型出所需要的纹路或图案，通常都是采用机械雕刻或普通的蚀刻方法成型，如激光雕刻机等机械设备，采用上述机械和方法在玻璃表面上成型出所需要的纹路和图案存在如下缺点:机械加工对玻璃的厚度有要求，所成型的纹路或图案很粗糙，外观效果差，生产效率低。为了解决上述问题，现有技术中出现了基于压印和光学固化方式的生产方法，但是这种方法需要依赖具有精细纹理的模板，而现有技术中缺少一种能提高加工效率、成品率的超精细玻璃模具。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术的不足，提供一种加工效率高、成品率高、易于实现的超精细纳米纹玻璃模具制备方法。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案。

一种超精细纳米纹玻璃模具制备方法，其包括有如下步骤：步骤S1，准备透明基材，制备用于形成精细纹理的模版；步骤S2，利用涂布设备在透明基材表面涂设光阻剂；步骤S3，利用烘干设备对透明基材进行烘烤；步骤S4，将模板叠放于透明基材的光阻剂胶层上，利用曝光设备进行曝光处理；步骤S5，将曝光后的透明基材放置于显影机中进行显影和定影处理；步骤S6，对定影后的透明基材进行清洗、干燥处理。

优选地，所述步骤S4中的曝光设备为紫外曝光箱。

优选地，所述步骤S2中的光阻剂为水溶性剂。

优选地，所述步骤S3中的烘烤温度为80℃，烘烤时间为10分钟。

优选地，所述步骤S6中，利用超声波清洗设备对透明基材进行清洗。

本发明公开的超精细纳米纹玻璃模具制备方法中，先利用计算机、激光制版机等设备制备模板，将模板覆盖于透明基材涂设光阻剂的一侧，通过显影和定影使得透明基材上形成超精细的纹理图案，其相比现有技术中采用机械雕刻的方式而言，大大提高了加工效率和成品良率，同时，本发明工艺简单、易于实现，适合在本领域内推广应用。

附图说明

图1为本发明超精细纳米纹玻璃模具制备方法的流程图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作更加详细的描述。

本发明公开了一种超精细纳米纹玻璃模具制备方法，请参照图1，其包括有如下步骤：

步骤S1，准备透明基材，制备用于形成精细纹理的模版；

步骤S2，利用涂布设备在透明基材表面涂设光阻剂；

步骤S3，利用烘干设备对透明基材进行烘烤；

步骤S4，将模板叠放于透明基材的光阻剂胶层上，利用曝光设备进行曝光处理；

步骤S5，将曝光后的透明基材放置于显影机中进行显影和定影处理；

步骤S6，对定影后的透明基材进行清洗、干燥处理。

上述方法中，先利用计算机、激光制版机等设备制备模板，将模板覆盖于透明基材涂设光阻剂的一侧，通过显影和定影使得透明基材上形成超精细的纹理图案，其相比现有技术中采用机械雕刻的方式而言，大大提高了加工效率和成品良率，同时，本发明工艺简单、易于实现，适合在本领域内推广应用。

本实施例中，所述步骤S4中的曝光设备为紫外曝光箱。

进一步地，所述步骤S2中的光阻剂为水溶性剂。

作为一种优选方式，所述步骤S3中的烘烤温度为80℃，烘烤时间为10分钟。

本实施例中，所述步骤S6中，利用超声波清洗设备对透明基材进行清洗。

本发明的具体实现过程可参考如下实施例：

1、涂胶，采用旋转涂胶方式实现，其中的一个技术要求是：膜厚与膜厚均匀，对于光阻剂粘度，不同的厚度需采用不同粘度的光阻，而旋转速度/时间、胶量，也会直接影响到膜厚及其均匀性；另一个技术要求是：附着力好无杂质等缺陷，处理时要保证玻璃原材料洁净度，表面干燥，而车间环境洁净度，点胶手法等也会造成杂质缺陷。光阻粘度相同情况下，旋转速度/时间对膜厚及其均匀性的影响请参照下表：

2、预烤，要求去除溶剂(4％-7％)，增强黏附性，释放光阻剂膜内应力，组织光阻剂沾污设备/掩膜版等。首先，若预烤不足，则溶剂不能及时挥发，显影时部分区域被溶出，若烘烤时间过长，胶膜翘曲硬化，胶的感光特性会变化；其次，溶剂会吸收光，干扰曝光中聚合物的化学反应；此外，要求提高涂胶的均匀性、提高图形线框的控制能力以及提高抗腐蚀能力。