[发明专利]一种超精细纳米纹玻璃模具制备方法

权利要求书

1.一种超精细纳米纹玻璃模具制备方法，其特征在于，包括有如下步骤：

步骤S1，准备透明基材，制备用于形成精细纹理的模版；

步骤S2，利用涂布设备在透明基材表面涂设光阻剂；

步骤S3，利用烘干设备对透明基材进行烘烤；

步骤S4，将模板叠放于透明基材的光阻剂胶层上，利用曝光设备进行曝光处理；

步骤S5，将曝光后的透明基材放置于显影机中进行显影和定影处理；

步骤S6，对定影后的透明基材进行清洗、干燥处理。

2.如权利要求1所述的超精细纳米纹玻璃模具制备方法，其特征在于，所述步骤S4中的曝光设备为紫外曝光箱。

3.如权利要求1所述的超精细纳米纹玻璃模具制备方法，其特征在于，所述步骤S2中的光阻剂为水溶性剂。

4.如权利要求1所述的超精细纳米纹玻璃模具制备方法，其特征在于，所述步骤S3中的烘烤温度为80℃，烘烤时间为10分钟。

5.如权利要求1所述的超精细纳米纹玻璃模具制备方法，其特征在于，所述步骤S6中，利用超声波清洗设备对透明基材进行清洗。