[发明专利]悬浮液、研磨液套剂、研磨液以及使用它们的基板的研磨方法有效
申请号: | 201710791020.9 | 申请日: | 2011-01-20 |
公开(公告)号: | CN107474799B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 岩野友洋;秋元启孝;成田武宪;木村忠广;龙崎大介 | 申请(专利权)人: | 昭和电工材料株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 汤国华 |
地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及的悬浮液,含有磨粒和水,磨粒含有4价氢氧化铈粒子,且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。本发明涉及的研磨液,含有磨粒、添加剂和水,磨粒含有4价氢氧化铈粒子,且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。 | ||
搜索关键词: | 悬浮液 研磨 液套剂 以及 使用 它们 方法 | ||
【主权项】:
一种悬浮液,其特征在于,含有磨粒和水,所述磨粒含有4价氢氧化铈粒子,且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,对于波长500nm的光有50%/cm以上的透光率。
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