[发明专利]海底原位X荧光测量影响监管方法及装置有效

专利信息
申请号: 201710789900.2 申请日: 2017-09-05
公开(公告)号: CN107589130B 公开(公告)日: 2020-05-29
发明(设计)人: 王广西;葛良全;李丹;赖万昌;胡燕;翟娟;杨强;张庆贤;谷懿;郭成 申请(专利权)人: 成都理工大学
主分类号: G01N23/083 分类号: G01N23/083;G01N23/223
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 苏胜
地址: 610051 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及一种海底原位X荧光测量影响监管方法及装置。所述方法包括:建立蒙特卡罗模型,通过蒙特卡罗模型模拟获得目标元素特征X射线在不含杂质且不同厚度铍窗下的透过率;根据该透过率并结合铍窗安全性理论分析结果确定铍窗的优选厚度;通过蒙特卡罗模型模拟分别获得铍窗厚度为所述优选厚度且含杂质,以及铍窗厚度为所述优选厚度且不含杂质时,目标元素特征X射线强度与目标元素含量的关系,并进行对比,得到对比结果;根据该对比结果判断铍窗含杂质时对目标元素特征X射线强度是否有影响,若有,则对铍窗含杂质时目标元素特征X射线强度进行校正。本发明实施例提供的海底原位X荧光测量影响监管方法,有效地提高了测量结果的准确度。
搜索关键词: 海底 原位 荧光 测量 影响 监管 方法 装置
【主权项】:
一种海底原位X荧光测量影响监管方法,应用于海底原位X荧光测量设备,其特征在于,所述方法包括:建立蒙特卡罗模型,通过蒙特卡罗模型模拟获得目标元素特征X射线在不含杂质且不同厚度铍窗下的透过率;根据该透过率并结合铍窗安全性理论分析结果确定铍窗的优选厚度;通过蒙特卡罗模型模拟分别获得铍窗厚度为所述优选厚度且含杂质,以及铍窗厚度为所述优选厚度且不含杂质时,目标元素特征X射线强度与目标元素含量的关系,并进行对比,得到对比结果;根据该对比结果判断铍窗含杂质时对目标元素特征X射线强度是否有影响,若有,则对铍窗含杂质时目标元素特征X射线强度进行校正。
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