[发明专利]海底原位X荧光测量影响监管方法及装置有效
申请号: | 201710789900.2 | 申请日: | 2017-09-05 |
公开(公告)号: | CN107589130B | 公开(公告)日: | 2020-05-29 |
发明(设计)人: | 王广西;葛良全;李丹;赖万昌;胡燕;翟娟;杨强;张庆贤;谷懿;郭成 | 申请(专利权)人: | 成都理工大学 |
主分类号: | G01N23/083 | 分类号: | G01N23/083;G01N23/223 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 苏胜 |
地址: | 610051 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种海底原位X荧光测量影响监管方法及装置。所述方法包括:建立蒙特卡罗模型,通过蒙特卡罗模型模拟获得目标元素特征X射线在不含杂质且不同厚度铍窗下的透过率;根据该透过率并结合铍窗安全性理论分析结果确定铍窗的优选厚度;通过蒙特卡罗模型模拟分别获得铍窗厚度为所述优选厚度且含杂质,以及铍窗厚度为所述优选厚度且不含杂质时,目标元素特征X射线强度与目标元素含量的关系,并进行对比,得到对比结果;根据该对比结果判断铍窗含杂质时对目标元素特征X射线强度是否有影响,若有,则对铍窗含杂质时目标元素特征X射线强度进行校正。本发明实施例提供的海底原位X荧光测量影响监管方法,有效地提高了测量结果的准确度。 | ||
搜索关键词: | 海底 原位 荧光 测量 影响 监管 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种海底原位X荧光测量影响监管方法,应用于海底原位X荧光测量设备,其特征在于,所述方法包括:建立蒙特卡罗模型,通过蒙特卡罗模型模拟获得目标元素特征X射线在不含杂质且不同厚度铍窗下的透过率;根据该透过率并结合铍窗安全性理论分析结果确定铍窗的优选厚度;通过蒙特卡罗模型模拟分别获得铍窗厚度为所述优选厚度且含杂质,以及铍窗厚度为所述优选厚度且不含杂质时,目标元素特征X射线强度与目标元素含量的关系,并进行对比,得到对比结果;根据该对比结果判断铍窗含杂质时对目标元素特征X射线强度是否有影响,若有,则对铍窗含杂质时目标元素特征X射线强度进行校正。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都理工大学,未经成都理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710789900.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:放射线成像系统
- 下一篇:一种利用SAXS分析高性能纤维的方法和系统