[发明专利]一种测量深孔侧壁薄膜厚度的方法及装置

摘要

本申请实施例公开了一种测量深孔侧壁薄膜厚度的方法，该方法对深孔侧壁上多层薄膜采用逐层沉积计算的方式来计算每层薄膜的厚度，即在深孔侧壁上每沉积一层薄膜就采用椭圆偏振光谱法测量获取一次实际光谱。对于深孔侧壁上任意一层薄膜来说，在获取实际光谱后，根据该实际光谱以及之前沉积每一层薄膜时测量出来的之前每一层薄膜的厚度以及深孔的几何结构参数，可以计算出该层薄膜的厚度，从而实现测量深孔侧壁上多层薄膜中每层薄膜的厚度，以在薄膜沉积过程中保证每层薄膜厚度的准确性目的。

主权项

1.一种测量深孔侧壁薄膜厚度的方法，其特征在于，所述方法包括：在深孔中没有沉积任何薄膜之前，采用椭圆偏振光谱法对所述深孔进行测量，以获取第一实际光谱，并根据所述第一实际光谱测量所述深孔的几何结构参数，其中，根据所述几何结构参数确定出的第一理论光谱与所述第一实际光谱是可拟合的；在所述深孔侧壁的表面沉积第一层薄膜之后，采用椭圆偏振光谱法对所述深孔进行测量，以获取第二实际光谱，并根据所述第二实际光谱测量所述第一层薄膜的厚度，其中，根据所述几何结构参数和所述第一层薄膜的厚度确定出的第二理论光谱与所述第二实际光谱是可拟合的；在所述第一层薄膜的表面沉积第二层薄膜之后，采用椭圆偏振光谱法对所述深孔进行测量，以获取第三实际光谱，并根据所述第三实际光谱测量所述第二层薄膜的厚度，其中，根据所述几何结构参数、所述第一层薄膜的厚度和所述第二层薄膜的厚度确定出的第三理论光谱与所述第三实际光谱是可拟合的。