[发明专利]一种大功率整流管芯的制造方法有效
申请号: | 201710765588.3 | 申请日: | 2017-08-30 |
公开(公告)号: | CN109427581B | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 王东东;王政英;刘锐鸣;刘芹;朱为为;唐革;姚震洋;高军;邹昌 | 申请(专利权)人: | 株洲中车时代半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/329 | 分类号: | H01L21/329 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 吴大建;张杰 |
地址: | 412001 湖南省株洲市石峰*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种大功率整流管芯的制造方法,包括:铝杂质扩散步骤、第一化学腐蚀步骤、第一氧化步骤、第二化学腐蚀步骤、磷杂质扩散步骤、第二氧化步骤、第三化学腐蚀步骤和硼杂质扩散步骤。在第一化学腐蚀步骤中,对通过铝杂质扩散步骤得到的晶圆片进行化学腐蚀,以去除阴极面的铝杂质并保留阳极面的铝杂质。在第二化学腐蚀步骤中,对通过第一氧化步骤得到的晶圆片进行化学腐蚀,以去除阴极面的氧化层并保留阳极面的氧化层。在第三化学腐蚀步骤中,对通过第二氧化步骤得到的晶圆片进行化学腐蚀,以去除阳极面的氧化层并保留阴极面的氧化层。采用本发明可缩短三天的工艺时间,节省大量人力物力,降低环境污染,避免光刻胶脱落对芯片质量的影响。 | ||
搜索关键词: | 一种 大功率 整流 管芯 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种大功率整流管芯的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:铝杂质扩散步骤,对N型晶圆片的阳极面和阴极面进行铝杂质扩散;第一化学腐蚀步骤,对通过所述铝杂质扩散步骤得到的晶圆片进行化学腐蚀,以去除该晶圆片阴极面的铝杂质并保留该晶圆片阳极面的铝杂质;第一氧化步骤,对通过所述第一化学腐蚀步骤得到的晶圆片的阳极面和阴极面进行氧化;第二化学腐蚀步骤,对通过所述第一氧化步骤得到的晶圆片进行化学腐蚀,以去除该晶圆片阴极面的氧化层并保留该晶圆片阳极面的氧化层;磷杂质扩散步骤,对通过所述第二化学腐蚀步骤得到的晶圆片的阴极面进行磷杂质扩散,并在所述磷杂质扩散后去除该晶圆片阳极面的氧化层;第二氧化步骤,对通过所述磷杂质扩散步骤得到的晶圆片的阳极面和阴极面进行氧化;第三化学腐蚀步骤,对通过所述第二氧化步骤得到的晶圆片进行化学腐蚀,以去除该晶圆片阳极面的氧化层并保留该晶圆片阴极面的氧化层;硼杂质扩散步骤,对通过所述第三化学腐蚀步骤得到的晶圆片的阳极面进行硼杂质扩散,并在所述硼杂质扩散后去除该晶圆片阴极面的氧化层,得到大功率整流管芯。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造