[发明专利]一种高强度壳聚糖基阴离子交换膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710765262.0 申请日: 2017-08-30
公开(公告)号: CN107417943B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 沈春晖;袁园;高山俊;陈继钦;任学超 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C08J5/22 分类号: C08J5/22;H01M8/1072;H01M8/1044
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 唐万荣;官群
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种高强度壳聚糖基阴离子交换膜及其制备方法,所述阴离子交换膜由壳聚糖溶于溶剂后与聚二烯二甲基氯化铵机械共混得到均相溶液,再与环氧硅氧烷发生环氧开环反应得到聚合物溶胶,以四乙氧基硅烷为前驱体,通过溶胶‑凝胶技术得到高强度壳聚糖基阴离子交换膜。本发明制备的高强度壳聚糖基阴离子交换膜以硅氧烷作为化学交联剂,硅氧烷中的烷氧基团Si‑OCH3水解生成Si‑OH结构,进而脱水缩合形成致密的Si‑O‑Si三维网状结构,极大限度地提高了膜的机械强度,降低了CS/PDDA复合阴离子交换膜的溶胀度,提高了膜的力学性能和尺寸稳定性,延长了膜的使用寿命。
搜索关键词: 一种 强度 聚糖 阴离子 交换 及其 制备 方法
【主权项】:
一种高强度壳聚糖基阴离子交换膜,其特征在于,所述阴离子交换膜由壳聚糖溶于溶剂后与聚二烯二甲基氯化铵机械共混得到均相溶液,再与环氧硅氧烷发生环氧开环反应得到聚合物溶胶,以四乙氧基硅烷为前驱体,通过溶胶‑凝胶技术得到高强度壳聚糖基阴离子交换膜。
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