[发明专利]一种高强度壳聚糖基阴离子交换膜及其制备方法有效
申请号: | 201710765262.0 | 申请日: | 2017-08-30 |
公开(公告)号: | CN107417943B | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 沈春晖;袁园;高山俊;陈继钦;任学超 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | C08J5/22 | 分类号: | C08J5/22;H01M8/1072;H01M8/1044 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 唐万荣;官群 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: |
本发明涉及一种高强度壳聚糖基阴离子交换膜及其制备方法,所述阴离子交换膜由壳聚糖溶于溶剂后与聚二烯二甲基氯化铵机械共混得到均相溶液,再与环氧硅氧烷发生环氧开环反应得到聚合物溶胶,以四乙氧基硅烷为前驱体,通过溶胶‑凝胶技术得到高强度壳聚糖基阴离子交换膜。本发明制备的高强度壳聚糖基阴离子交换膜以硅氧烷作为化学交联剂,硅氧烷中的烷氧基团Si‑OCH |
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搜索关键词: | 一种 强度 聚糖 阴离子 交换 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高强度壳聚糖基阴离子交换膜,其特征在于,所述阴离子交换膜由壳聚糖溶于溶剂后与聚二烯二甲基氯化铵机械共混得到均相溶液,再与环氧硅氧烷发生环氧开环反应得到聚合物溶胶,以四乙氧基硅烷为前驱体,通过溶胶‑凝胶技术得到高强度壳聚糖基阴离子交换膜。
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