[发明专利]清洗半导体设备部件的设备及清洗方法在审
| 申请号： | 201710764959.6 | 申请日： | 2017-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109420638A | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | 马后永 | 申请（专利权）人： | 映瑞光电科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B13/00;B08B3/12;B08B3/10;B08B3/02 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 周乃鑫 |
| 地址： | 201306 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开清洗半导体设备部件的设备，该设备包含清洗槽，清洗槽内放置有清洗液，待清洗的部件浸泡在清洗槽内的清洗液中；所述清洗液为氨水、或氨水和双氧水的混合溶液。本发明基于蓝绿外延工艺环境为富氮的环境，会用到大量的氨气的因素，利用弱碱性的氨水对不锈钢材质的部件进行清洗，将不会影响到外延工艺的恢复，同时也不会对部件造成损坏，由于未引入任何影响到外延工艺的物质，因此，外延工艺恢复时间将缩短。 | ||
| 搜索关键词： | 外延工艺 清洗 氨水 清洗槽 清洗液 半导体设备 双氧水 氨气 不锈钢材质 混合溶液 弱碱性 富氮 浸泡 恢复 引入 | ||
【主权项】：
1.一种清洗半导体设备部件的设备，其特征在于，该设备包含清洗槽，清洗槽内放置有清洗液，待清洗的部件浸泡在清洗槽内的清洗液中；所述清洗液为氨水、或氨水和双氧水的混合溶液。
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