[发明专利]COA型阵列基板的制备方法有效
| 申请号： | 201710736395.5 | 申请日： | 2017-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN107450224B | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 廖辉华 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰;黄进 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种COA型阵列基板的制备方法，其包括：提供一衬底基板，所述衬底基板上设置有对位标记；在所述衬底基板上制备形成彩色滤光层，包括：利用所述对位标记进行精确对位后，分别制备形成第一颜色光阻单元、第二颜色光阻单元和第三颜色光阻单元；其中，在制备所述第一颜色光阻单元时，将第一颜色光阻材料在所述对位标记的周围制备形成挡墙、在所述对位标记上制备形成间隔层；在所述彩色滤光层上涂覆黑色光阻材料层；利用所述对位标记进行精确对位后，对所述黑色光阻材料层进行曝光显影，形成黑色矩阵。通过设置挡墙和间隔层，减薄覆盖于所述对位标记上的黑色光阻材料层的厚度，解决了COA技术中黑色矩阵无法准确对位的问题。 | ||
| 搜索关键词： | coa 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种COA型阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：提供一衬底基板，所述衬底基板上设置有对位标记；在所述衬底基板上制备形成彩色滤光层，包括：利用所述对位标记进行精确对位后，分别制备形成第一颜色光阻单元、第二颜色光阻单元和第三颜色光阻单元；其中，在制备所述第一颜色光阻单元时，将第一颜色光阻材料在所述对位标记的周围制备形成挡墙、在所述对位标记上制备形成间隔层；在所述彩色滤光层上涂覆黑色光阻材料层，所述挡墙和所述间隔层对所述黑色光阻材料的涂覆造成阻隔，以减薄覆盖于所述对位标记上的黑色光阻材料层的厚度；利用所述对位标记进行精确对位后，对所述黑色光阻材料层进行曝光显影，形成黑色矩阵。
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