[发明专利]柔性显示器件及其制造方法有效
申请号: | 201710723795.2 | 申请日: | 2017-08-22 |
公开(公告)号: | CN109427990B | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 翟保才 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L27/32;G09F9/30 |
代理公司: | 上海隆天律师事务所 31282 | 代理人: | 臧云霄;钟宗 |
地址: | 201506 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了柔性显示器件及其制造方法,其中柔性显示器件包括:依次层叠的柔性阵列基板、有机发光器件层、薄膜封装层、水氧阻隔层、触控电极层、抗反射补偿膜、盖板;其中,抗反射补偿膜包括依次层叠的四分之一波片、双折射补偿膜以及聚乙烯醇薄膜,双折射补偿膜包括基材和形成与基材上的补偿膜,补偿膜的材料是高分子聚合物,对可见光的补偿范围是‑200nm至200nm。本发明通过对抗反射补偿膜下面所有膜层均进行相位补偿,降低抗反射补偿膜下面各层膜材的额外位相差值影响,降低整个模组的反射率,减轻有机发光柔性显示器件暗态漏光现象,缓解有机发光柔性显示器件暗态色偏现象。 | ||
搜索关键词: | 柔性 显示 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种柔性显示器件,其特征在于,包括一柔性阵列基板;一有机发光器件层,形成于所述柔性阵列基板的一侧;一薄膜封装层,形成于所述有机发光器件层背离所述柔性阵列基板的一侧;一水氧阻隔层,形成于所述薄膜封装层背离所述有机发光器件层的一侧;一触控电极层,形成于所述水氧阻隔层背离所述薄膜封装层的一侧;一抗反射补偿膜,形成于所述触控电极层背离所述水氧阻隔层的一侧;以及一盖板,形成于所述抗反射补偿膜背离所述触控电极层的一侧;其中,所述抗反射补偿膜包括一四分之一波片,形成于所述触控电极层背离所述水氧阻隔层的一侧;一双折射补偿膜,形成于所述四分之一波片背离所述触控电极层的一侧,所述双折射补偿膜的材料是双折射效应材料;以及一聚乙烯醇薄膜,形成于所述双折射补偿膜背离所述四分之一波片的一侧。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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