[发明专利]柔性显示器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710723795.2 申请日: 2017-08-22
公开(公告)号: CN109427990B 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 翟保才 申请(专利权)人: 上海和辉光电股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32;G09F9/30
代理公司: 上海隆天律师事务所 31282 代理人: 臧云霄;钟宗
地址: 201506 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了柔性显示器件及其制造方法,其中柔性显示器件包括:依次层叠的柔性阵列基板、有机发光器件层、薄膜封装层、水氧阻隔层、触控电极层、抗反射补偿膜、盖板;其中,抗反射补偿膜包括依次层叠的四分之一波片、双折射补偿膜以及聚乙烯醇薄膜,双折射补偿膜包括基材和形成与基材上的补偿膜,补偿膜的材料是高分子聚合物,对可见光的补偿范围是‑200nm至200nm。本发明通过对抗反射补偿膜下面所有膜层均进行相位补偿,降低抗反射补偿膜下面各层膜材的额外位相差值影响,降低整个模组的反射率,减轻有机发光柔性显示器件暗态漏光现象,缓解有机发光柔性显示器件暗态色偏现象。
搜索关键词: 柔性 显示 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种柔性显示器件,其特征在于,包括一柔性阵列基板;一有机发光器件层,形成于所述柔性阵列基板的一侧;一薄膜封装层,形成于所述有机发光器件层背离所述柔性阵列基板的一侧;一水氧阻隔层,形成于所述薄膜封装层背离所述有机发光器件层的一侧;一触控电极层,形成于所述水氧阻隔层背离所述薄膜封装层的一侧;一抗反射补偿膜,形成于所述触控电极层背离所述水氧阻隔层的一侧;以及一盖板,形成于所述抗反射补偿膜背离所述触控电极层的一侧;其中,所述抗反射补偿膜包括一四分之一波片,形成于所述触控电极层背离所述水氧阻隔层的一侧;一双折射补偿膜,形成于所述四分之一波片背离所述触控电极层的一侧,所述双折射补偿膜的材料是双折射效应材料;以及一聚乙烯醇薄膜,形成于所述双折射补偿膜背离所述四分之一波片的一侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电股份有限公司,未经上海和辉光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710723795.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top