[发明专利]一种高致密度ITO旋转靶的烧结方法有效
| 申请号： | 201710708857.2 | 申请日： | 2017-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN107445609B | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 师琳璞;方宏;刘冠鹏;杨硕 | 申请（专利权）人： | 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 |
| 主分类号： | C04B35/453 | 分类号： | C04B35/453;C04B35/622 |
| 代理公司： | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人： | 孙笑飞 |
| 地址： | 471000 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 一种高致密度ITO旋转靶的烧结方法，包括将原料制成ITO旋转靶素坯的步骤和将ITO旋转靶素坯在氧气氛烧结炉中烧制成ITO旋转靶材的步骤。在烧制之前，先在承烧板上放置陶瓷素坯，然后将ITO旋转靶素坯放在陶瓷素坯上，并使ITO旋转靶素坯的底面与陶瓷素坯完全接触，以便在烧制过程中使ITO旋转靶素坯和陶瓷素坯同步收缩，以此消除或减少两者之间的相对位移，从而消除或减少收缩阻力的影响，改善旋转靶顶部和底部收缩不一致的现象，提供靶材均匀性和相对密度。旋转靶各个部位的相对密度之差不大于0.1%，各个部位的内径之差不大于0.2%。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 致密 ito 旋转 烧结 方法 | ||
【主权项】：
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