[发明专利]曝光方法和曝光装置有效
| 申请号： | 201710704377.9 | 申请日： | 2017-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN107300836B | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 邓金全 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;G03F1/00 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曝光方法，用于对基板上的光阻进行曝光，形成具有段差的层结构，曝光方法包括：提供光源、滤光光罩和n个滤光片；其中，滤光光罩上设有不透光区和至少两个滤光区，每个滤光区用于透过至少一种光线，每个滤光区所能透过的光线的波长为离散值，且每个滤光区所能透过的光线的波长不同；每个滤光片用于透过一种光线，n个滤光片透过的光线种类各不相同，n大于或等于2；使用光源依次照射n个滤光片，并依次采用n个滤光片透过的光线，通过滤光光罩对光阻进行n次曝光。本发明还提供了一种曝光装置。发明的方案能够使膜厚控制变得精细化，有利于减少膜厚误差，便于曝光工艺的调试，增大了工艺窗口，提高量产良率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，用于对基板上的光阻进行曝光，形成具有段差的层结构，其特征在于，所述曝光方法包括：提供光源、滤光光罩和n个滤光片；其中，所述滤光光罩上设有不透光区和滤光区，所述滤光区用于透过至少两种光线；每个所述滤光片用于透过一种光线，n个所述滤光片透过的光线种类各不相同，n大于或等于2；使用所述光源依次照射n个所述滤光片，并依次采用n个所述滤光片透过的光线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行n次曝光。
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