[发明专利]曝光方法和曝光装置

说明书

本发明提供了一种曝光方法，用于对基板上的光阻进行曝光，形成具有段差的层结构，曝光方法包括：提供光源、滤光光罩和n个滤光片；其中，滤光光罩上设有不透光区和至少两个滤光区，每个滤光区用于透过至少一种光线，每个滤光区所能透过的光线的波长为离散值，且每个滤光区所能透过的光线的波长不同；每个滤光片用于透过一种光线，n个滤光片透过的光线种类各不相同，n大于或等于2；使用光源依次照射n个滤光片，并依次采用n个滤光片透过的光线，通过滤光光罩对光阻进行n次曝光。本发明还提供了一种曝光装置。发明的方案能够使膜厚控制变得精细化，有利于减少膜厚误差，便于曝光工艺的调试，增大了工艺窗口，提高量产良率。

技术领域

本发明涉及液晶显示器技术领域，尤其涉及一种曝光方法和曝光装置。

背景技术

在液晶显示面板的制造过程中，需要使用光刻工艺在基板上形成薄膜。光刻工艺包括曝光制程，曝光量不同则最终形成的膜厚不同。

实际产品经常要求所形成的薄膜膜厚具有若干段差。现有技术中经常使用半透光罩制造具有膜厚段差的薄膜。半透光罩上具有若干不同光透过率的区域，穿过不同光透过率的区域的光量不同，光阻上相应位置的曝光量也不同，从而形成膜厚段差。此种方式的膜厚控制不够精确，且在半透光罩已经制造完成后无法进行工艺调试，工艺性较差。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种曝光方法和曝光装置，能够解决现有技术中膜厚控制不精确，且无法进行工艺调试的问题。

一种曝光方法，用于对基板上的光阻进行曝光，形成具有段差的层结构，所述曝光方法包括：提供光源、滤光光罩和n个滤光片；其中，所述滤光光罩上设有不透光区和至少两个滤光区，每个所述滤光区用于透过至少一种光线，每个所述滤光区所能透过的光线的波长为离散值，且每个所述滤光区所能透过的光线的波长不同；每个所述滤光片用于透过一种光线，n个所述滤光片透过的光线种类各不相同，n大于或等于2；使用所述光源依次照射n个所述滤光片，并依次采用n个所述滤光片透过的光线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行n次曝光。

其中，所述光源为紫外光源；所述滤光片有两个，其中一个所述滤光片用于透过紫外光中的G谱线、H谱线或I谱线；另一个所述滤光片用于透过紫外光中的G谱线、H谱线和I谱线中的任意两种。

其中，所述滤光区包括第一滤光区和第二滤光区，所述第一滤光区用于透过紫外光中的G谱线、H谱线或I谱线；所述第二滤光区用于透过紫外光中的G谱线、H谱线和I谱线中的任意两种。

其中，两个所述滤光片分别为第一滤光片和第二滤光片，所述第一滤光片用于透过I谱线，所述第二滤光片用于透过G谱线和H谱线；所述滤光区包括第一滤光区和第二滤光区，所述第一滤光区用于透过I谱线，所述第二滤光区用于透过H谱线和I谱线；其中，步骤使用所述光源依次照射n个所述滤光片，并依次采用n个所述滤光片透过的光线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行n次曝光包括：使用所述光源照射所述第一滤光片以透过I谱线，并采用所述第一滤光片透过的I谱线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行第一次曝光；使用所述光源照射所述第二滤光片以透过G谱线和H谱线，并采用所述第二滤光片透过的G谱线和H谱线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行第二次曝光。

其中，所述滤光光罩上还设有完全透光区，所述完全透光区与第一滤光区相邻。

其中，所述光阻为负性光阻，所述光阻经两次曝光后形成黑隔垫层。