[发明专利]碳酸氢气水及其在基板表面的应用在审
| 申请号： | 201710692205.4 | 申请日： | 2017-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN107619098A | 公开（公告）日： | 2018-01-23 |
| 发明（设计）人： | 李在龙 | 申请（专利权）人： | MAG技术株式会社;天津高登泰克电子有限公司;李茂根 |
| 主分类号： | C02F1/70 | 分类号： | C02F1/70;H01L21/02 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司12209 | 代理人： | 高璇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种碳酸氢气水，其特征在于通过氢气水中溶解二氧化碳而成，制备后的碳酸氢气水pH值为4.0～6.8,氧化还原电位为‑50mv～‑650mv,导电率为0.072uS/cm～80uS/cm。本发明通过氢气水中溶解二氧化碳得到既是酸性又有还原力，且导电率的较高碳酸氢气水。此类还原力较高的碳酸氢气水在清洗基板时，能够提高微粒子去除率，且还原力高，能够抑制基板模块上形成的氧化膜，提高清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 碳酸 氢气 及其 表面 应用 | ||
【主权项】：
一种碳酸氢气水，其特征在于：通过氢气水中溶解二氧化碳而成，制备后的碳酸氢气水pH值为4.0～6.8,氧化还原电位为‑50mv～‑650mv,导电率为0.072uS/cm～80uS/cm。
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