[发明专利]光致抗蚀膜、抗蚀图案的形成方法及导体图案的形成方法在审
| 申请号： | 201710685298.8 | 申请日： | 2017-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN109388026A | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 横道清一 | 申请（专利权）人： | 日兴材料株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 沈锦华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本申请涉及一种光致抗蚀膜、抗蚀图案的形成方法及导体图案的形成方法。本发明提供一种光致抗蚀膜，其在层压至被加工基材上时不易产生气隙，即便是经非硅酮系脱模剂涂布的保护膜，从感光性树脂组合物层剥离的剥离性也优异。本发明的光致抗蚀膜的特征在于：其是在(I)支撑膜上具有(II)感光性树脂组合物层/(III)保护膜的积层构造，且(II)感光性树脂组合物层的厚度为33μm以下的光致抗蚀膜，(III)保护膜是在(II)感光性树脂组合物层上的积层面的最大高度(Rz)为1.2μm以下、且胶带剥离强度为450～1500mN/cm的聚酯膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀膜 感光性树脂组合物层 保护膜 导体图案 抗蚀图案 剥离 加工基材 剥离性 聚酯膜 脱模剂 支撑膜 胶带 层压 硅酮 积层 气隙 申请 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀膜，其特征在于：其是在(I)支撑膜上具有(II)感光性树脂组合物层/(III)保护膜的积层构造，且(II)感光性树脂组合物层的厚度为33μm以下的光致抗蚀膜，(III)保护膜是在(II)感光性树脂组合物层上的积层面的最大高度(Rz)为1.2μm以下、且胶带剥离强度为450～1500mN/cm的聚酯膜。
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