[发明专利]一种用于全彩显示的MicroLED芯片及其制作方法在审
申请号: | 201710681775.3 | 申请日: | 2017-08-10 |
公开(公告)号: | CN107482032A | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
发明(设计)人: | 王兵;庄家铭;雷自合 | 申请(专利权)人: | 佛山市国星半导体技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人: | 胡枫 |
地址: | 528200 广东省佛山市南海区狮*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供的一种用于全彩显示的MicroLED芯片及其制作方法,在单个LED芯片上形成红蓝绿的发光结构,无需设置RGB阵列和微透镜,单颗MicroLED芯片即可完成全彩发光,像素间距小,分辨率高,进一步地,采用晶圆键合技术,将蓝光晶圆、绿光晶圆和红光晶圆键合在一起,形成单颗芯片,节省晶圆面积,此外,只需对单颗芯片进行一次测试分选和封装,节省人力物力,从而有利于大规模量产。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 全彩 显示 microled 芯片 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种用于全彩显示的MicroLED芯片的制作方法,包括:提供蓝光晶圆、绿光晶圆和红光晶圆,其中,所述蓝光晶圆包括第一衬底、蓝光外延层、第一氧化铟锡层和第一二氧化硅层,所述绿光晶圆包括第二衬底、绿光外延层、第二氧化铟锡层和第二二氧化硅层,所述红光晶圆包括第三衬底、红光外延层、第三氧化铟锡层和第三二氧化硅层;采用晶圆键合技术将所述第一二氧化硅层和第二二氧化硅层键合形成一体,得到蓝绿光晶圆;去除第二衬底,并在所述绿光外延层表面形成第四二氧化硅层;采用晶圆键合技术将所述第四二氧化硅层和第三二氧化硅层键合形成一体,得到蓝绿红光晶圆;去除第三衬底,形成MicroLED晶圆;形成电极,其中,所述电极包括设于第三氧化铟锡层上第一电极、设于第二氧化铟锡层上的第二电极、设于第一氧化铟锡层上的第三电极和设于蓝光外延层上的第四电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的