[发明专利]一种超薄电磁屏蔽材料

摘要

本发明提供了一种超薄电磁屏蔽材料，由以下方法制得：将厚度为0.04mm～0.045mm的柔性基材轧光，所述轧光的压力为15～25MPa，轧光的温度小于等于250℃；将轧光后的柔性基材依次进行粗化、活化、解胶、化学镀、电镀和烘干，得到超薄电磁屏蔽材料；粗化采用的粗化液为质量分数为15～25％的NaOH溶液；活化的温度为45～55℃。本发明通过采用厚度为0.04mm～0.045mm的柔性基材在特定条件下轧光，然后在质量分数为15～25％的NaOH溶液中粗化，再在温度为45～55℃下活化，使制得的超薄电磁屏蔽材料轻薄，且具有优异的电磁屏蔽性能和耐腐蚀性能；具有良好的装饰、服用、保护、消光和遮光性能。

主权项

1.一种超薄电磁屏蔽材料，由以下方法制得：将厚度为0.04mm～0.045mm的柔性基材轧光，所述轧光的压力为15～25MPa，轧光的温度小于等于250℃；将轧光后的柔性基材依次进行粗化、活化、解胶、化学镀、电镀和烘干，得到超薄电磁屏蔽材料；所述粗化采用的粗化液为质量分数为15～25％的NaOH溶液；所述活化的温度为45～55℃；所述活化采用的活化液包括胶体钯7～10ml/L、HCl 250～350ml/L和SnCl₂ 6～10g/L。