[发明专利]PDMS微流控芯片及基于湿法刻蚀制备PDMS微流控芯片的方法有效

专利信息
申请号: 201710656432.1 申请日: 2017-08-03
公开(公告)号: CN107262173B 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 陈跃东 申请(专利权)人: 广东顺德工业设计研究院(广东顺德创新设计研究院)
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 林青中
地址: 528300 广东省佛山市顺德*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种PDMS微流控芯片及基于湿法刻蚀制备PDMS微流控芯片的方法。该基于湿法刻蚀制备PDMS微流控芯片的方法包括以下步骤:制备阴模基片,所述阴模基片的表面具有第一微通道;将含有硅氯键的硅烷试剂修饰于PDMS板的表面;将所述PDMS板衍生化处理的表面与所述阴模基片具有第一微通道的表面相贴合;将刻蚀试剂加入到所述第一微通道中,用于对所述PDMS板衍生化处理的表面进行湿法刻蚀,以形成具有第二微通道的PDMS板,所述第二微通道的外轮廓形状与所述第一微通道的外轮廓形状相同;将所述具有第二微通道的PDMS板从所述阴模基片的表面剥离,即得PDMS微流控芯片。该制备方法操作简便且能够制备具有较小深度尺寸微通道的PDMS微流控芯片。
搜索关键词: pdms 微流控 芯片 基于 湿法 刻蚀 制备 方法
【主权项】:
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