[发明专利]一种开放式光罩存储装置有效
申请号: | 201710607022.8 | 申请日: | 2017-07-24 |
公开(公告)号: | CN107255904B | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 杨政谕 | 申请(专利权)人: | 亚翔系统集成科技(苏州)股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;B01D46/00 |
代理公司: | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人: | 陆金星 |
地址: | 215126 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种开放式光罩存储装置,包括存储箱体,所述存储箱体一侧的下部为敞口结构,该敞口结构的正上方设有出风口,由该出风口流出的气流向下运动,形成气墙并覆盖所述敞口结构;所述存储箱体内的上部设有化学过滤器、风机和空气过滤器;所述存储箱体内的下部设有至少1层光罩承载架,光罩承载架的外侧临近所述敞口结构,光罩承载架的内侧与存储箱体构成回风通道。本发明通过将存储箱体一侧的设计为敞口结构,通过该敞口结构进行光罩的拿取和存放,从而避免了现有技术中门的存在而带来的搬运不便的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 开放式 存储 装置 | ||
【主权项】:
一种开放式光罩存储装置,其特征在于:包括存储箱体(1),所述存储箱体一侧的下部为敞口结构,该敞口结构的正上方设有出风口(7),由该出风口流出的气流向下运动,形成气墙并覆盖所述敞口结构;所述存储箱体内的上部设有化学过滤器(8)、风机(3)和空气过滤器;所述存储箱体内的下部设有至少1层光罩承载架(9),光罩承载架的外侧临近所述敞口结构,光罩承载架的内侧与存储箱体构成回风通道(10);从空气过滤器出来的洁净气体由出风口向下运动,部分洁净气体流经光罩承载架进入所述回风通道,回风通道的出口与所述化学过滤器、空气过滤器连通,从而形成气流循环。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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