[发明专利]一种开放式光罩存储装置

说明书

本发明公开了一种开放式光罩存储装置，包括存储箱体，所述存储箱体一侧的下部为敞口结构，该敞口结构的正上方设有出风口，由该出风口流出的气流向下运动，形成气墙并覆盖所述敞口结构；所述存储箱体内的上部设有化学过滤器、风机和空气过滤器；所述存储箱体内的下部设有至少1层光罩承载架，光罩承载架的外侧临近所述敞口结构，光罩承载架的内侧与存储箱体构成回风通道。本发明通过将存储箱体一侧的设计为敞口结构，通过该敞口结构进行光罩的拿取和存放，从而避免了现有技术中门的存在而带来的搬运不便的问题。

技术领域

本发明涉及一种存储装置，具体涉及一种开放式光罩存储装置。

背景技术

光罩，业内又称光掩模版、掩膜版，英文名称MASK或reticle，材质由石英玻璃、金属铬组成，该产品是用于将图案透过光刻工艺反复将图形复制于生产的产品上，被广泛应用于近代电子、半导体、平面显示器、LED等产业。由于光罩的图形的反复复制特性，从量产角度来看，光罩的图形，不容许有多出来或消失的图形。

当前微电子制造技术迅速发展，因此相应的产品对生产环境的要求也越来越高。对微电子制造业来说，空气中的分子级空气污染物（或气载分子污染物，简称AMC）和颗粒物一样会危害产品并直接导致成品率降低。分子级空气污染物以气态形式存在，高效空气粒子过滤器（HEPA）或者超高效空气粒子过滤器(ULPA)根本无法过滤掉AMC。所以微电子厂房内分子级空气污染的控制越来越重要。目前，AMC国际分类标准有ITRS、SEMI、ISO 14644-8和JACA 35等标准，而最常用的是SEMI（国际半导体技术与材料协会SEMI F21-1102）。标准对AMC分四类：酸性AMC（MA）、碱性AMC（MB）、凝结物AMC（MC）、及掺杂物质AMC（MD）。

上述的AMC，在光刻过程中，由于使用光波长具有一定的能量，往往会使得在光罩内的AMC分子态气体在光罩图形上形成结晶反应并沉积，进而改变光罩原有的图形。

因此，为了避免AMC对光罩的影响，出现了光罩存储装置。现有的光罩存储装置参见图1~2所示，主要包括存储箱体1，存储箱体的一侧设有门2（该门作为光罩的进出口），存储箱体的顶部设有风机3和超高效空气粒子过滤器4（以不断地将洁净空气送入存储箱体内），存储箱体的内部为光罩存放区，其可以设有多层支架5以承载光罩6。气流流动方向参见图2所示。需要移取光罩时，先打开所述的门，然后再进行搬运。然而，实际应用中发现如下问题：(1) 由于现有的光罩尺寸较大（一般为800×600mm），从门口搬运时，因为有门的存在，导致搬运不方便，最终甚至需要拆除门；(2) 由于ULPA无法过滤掉AMC，因此需要在风机入口处安装化学过滤器，然而这种做法会严重影响化学过滤器的寿命，从而导致成本较高。

因此，开发一种新的光罩存储装置，在方便搬运的同时可以大大提高化学过滤器的寿命，以降低成本，显然具有积极的现实意义。

发明内容

本发明的目的是提供一种开放式光罩存储装置。

为达到上述发明目的，本发明采用的技术方案是：一种开放式光罩存储装置，包括存储箱体，所述存储箱体一侧的下部为敞口结构，该敞口结构的正上方设有出风口，由该出风口流出的气流向下运动，形成气墙并覆盖所述敞口结构；

所述存储箱体内的上部设有化学过滤器、风机和空气过滤器；所述存储箱体内的下部设有至少1层光罩承载架，光罩承载架的外侧临近所述敞口结构，光罩承载架的内侧与存储箱体构成回风通道；

从空气过滤器出来的洁净气体由出风口向下运动，部分洁净气体流经光罩承载架进入所述回风通道，回风通道的出口与所述化学过滤器、空气过滤器连通，从而形成气流循环。

上文中，所述存储箱体一侧的下部为敞口结构，可以方便光罩的拿取和存放。