[发明专利]晶体光学均匀性的测试方法及其检测装置在审
| 申请号： | 201710574789.5 | 申请日： | 2017-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN107228828A | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | 井旭 | 申请（专利权）人： | 济南快谱光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/21 | 分类号： | G01N21/21;G01N21/45 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 250000 山东省济南*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明属涉及一种晶体光学均匀性的测试方法及其检测装置。包括以下有效步骤a、通过对选择的相干光源进行准直和起偏处理，得到检测所需的检测光源；b、将检测光源发出的入射光入射到经过检测性抛光处理的待测晶体上，调节入射光偏振方向与晶体轴向的位置关系，使晶体轴向垂直于入射光的轴向；c、经过待测晶体的入射光进过进行检偏，实现偏振干涉成像；d、对检偏后的偏正干涉像进行接收显示，进而得到该晶轴方向下的晶体光学折射率均匀性。本发明利用利用晶体不同轴向的偏光干涉成像的原理，通过分析和比对，对晶体器件的毛坯进行初检，检出光学均匀性合格的产品直接进入精密加工工序，避免成品出现光学均匀性的不合格品。 | ||
| 搜索关键词： | 晶体 光学 均匀 测试 方法 及其 检测 装置 | ||
【主权项】：
一种晶体光学均匀性的测试方法，其特征在于，包括以下有效步骤：a、通过对选择的相干光源进行准直和起偏处理，得到检测所需的检测光源；b、将检测光源发出的入射光入射到经过检测性抛光处理的待测晶体上，调节入射光偏振方向与晶体轴向的位置关系，使晶体轴向垂直于入射光的轴向；c、经过待测晶体的入射光进过进行检偏，实现偏振干涉成像；d、对检偏后的偏正干涉像进行接收显示，进而得到该晶轴方向下的晶体光学折射率均匀性。
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