[发明专利]晶体光学均匀性的测试方法及其检测装置在审

专利信息
申请号: 201710574789.5 申请日: 2017-07-14
公开(公告)号: CN107228828A 公开(公告)日: 2017-10-03
发明(设计)人: 井旭 申请(专利权)人: 济南快谱光电技术有限公司
主分类号: G01N21/21 分类号: G01N21/21;G01N21/45
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250000 山东省济南*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 晶体 光学 均匀 测试 方法 及其 检测 装置
【说明书】:

技术领域

发明属于晶体光学均匀性检测技术领域,尤其涉及一种晶体光学均匀性的测试方法及其检测装置。

背景技术

目前对晶体(包括人工晶体和天然晶体)光学均匀性的检测方法通常是将待检晶体进行精密加工后使用激光干涉仪进行光学均匀性的检测,即只能成品后检测。在精密加工之前无法准确判断晶体光学均匀性是否合格,造成了成品合格率不高,浪费精密加工工作,增加成本,降低效率。因此,迫切需要一种能够对未成品之前的晶体光学均匀性检测的手段,来提高成品的合格率。

发明内容

本发明针对上述的未成品晶体缺乏有效的检测手段等技术问题,提出一种设计合理、结构简单、成本低廉且检测效果好、能够准确判断未成品晶体光学均匀性的晶体光学均匀性的测试方法及其检测装置。

为了达到上述目的,本发明采用的技术方案为,本发明提供一种晶体光学均匀性的测试方法,包括以下有效步骤:

a、通过对选择的相干光源进行准直和起偏处理,得到检测所需的检测光源;

b、将检测光源发出的入射光入射到经过检测性抛光处理的待测晶体上,调节入射光偏振方向与晶体轴向的位置关系,使晶体轴向垂直于入射光的轴向;

c、经过待测晶体的入射光进过进行检偏,实现偏振干涉成像;

d、对检偏后的偏正干涉像进行接收显示,进而得到该晶轴方向下的晶体光学折射率均匀性。

作为优选,所述a步骤中,所述相干光源为激光器或者单色仪装置产生的光源。

作为优选,所述a步骤中,所述相干光源通过准直器和起偏器进行准直和起偏处理。

作为优选,所述b步骤中,通过相位延迟器对检测光源发出的入射光进行调节入射光偏振方向与晶体轴向的位置关系。

作为优选,所述c步骤中,通过检偏器对待测晶体的入射光进过进行检偏,实现偏振干涉成像。

作为优选,所述d步骤中,利用成像接收器或视频信号接收器,对检偏后的偏正干涉像进行接收显示。

本发明还提供了利用上述的晶体光学均匀性的测试方法的检测装置,包括沿轴线依次设置的相干光源发射器、准直器、起偏器、相位延迟器、晶体放置台、检偏器以及成像接收装置,其中,所述相干光源发射器用于发射光源;所述准直器用于对相干光源进行扩束和光场匀化;所述起偏器用于使相干光源成为完全的线偏振光源;所述相位延迟器用于调整相干光源发出的入射光的偏振态进行调节,所述晶体放置台放置台用于放置待检测晶体,所述检偏器用于对经过待检测的入射光进行检偏,实现偏振干涉成像,所述成像接收装置用于对检偏后的偏正干涉像进行接收显示。

作为优选,所述相干光源发射器为激光器或者单色仪装置。

作为优选,所述成像接收装置为成像接收器或视频信号接收器。

作为优选,所述准直器与起偏器之间还设置有可变光阑。

与现有技术相比,本发明的优点和积极效果在于,

1、本发明通过提供一种晶体光学均匀性的测试方法及其检测装置,利用利用晶体不同轴向的偏光干涉成像的原理,通过分析和比对,对晶体器件的毛坯进行初检,检出光学均匀性合格的产品直接进入精密加工工序,避免成品出现光学均匀性的不合格品。

2、本发明方法简单、操作方便且利用现有成熟的设备通过组合,来实现本发明方法的操作,大大降低了检测成本,适合大规模推广使用。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为实施例2提供的晶体光学均匀性的检测装置的结构示意图;

以上各图中,1、相干光源发射器;2、准直器;3、可变光阑;4、起偏器;5、相位延迟器;6、晶体放置台;7、检偏器;8、成像接收装置。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点,下面结合附图和实施例对本发明做进一步说明。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明,但是,本发明还可以采用不同于在此描述的其他方式来实施,因此,本发明并不限于下面公开说明书的具体实施例的限制。

实施例1,本实施例提供晶体光学均匀性的测试方法

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