[发明专利]晶体光学均匀性的测试方法及其检测装置在审
申请号: | 201710574789.5 | 申请日: | 2017-07-14 |
公开(公告)号: | CN107228828A | 公开(公告)日: | 2017-10-03 |
发明(设计)人: | 井旭 | 申请(专利权)人: | 济南快谱光电技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/21 | 分类号: | G01N21/21;G01N21/45 |
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地址: | 250000 山东省济南*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶体 光学 均匀 测试 方法 及其 检测 装置 | ||
1.一种晶体光学均匀性的测试方法,其特征在于,包括以下有效步骤:
a、通过对选择的相干光源进行准直和起偏处理,得到检测所需的检测光源;
b、将检测光源发出的入射光入射到经过检测性抛光处理的待测晶体上,调节入射光偏振方向与晶体轴向的位置关系,使晶体轴向垂直于入射光的轴向;
c、经过待测晶体的入射光进过进行检偏,实现偏振干涉成像;
d、对检偏后的偏正干涉像进行接收显示,进而得到该晶轴方向下的晶体光学折射率均匀性。
2.根据权利要求1所述的晶体光学均匀性的测试方法,其特征在于,所述a步骤中,所述相干光源为激光器或者单色仪装置产生的光源。
3.根据权利要求2所述的晶体光学均匀性的测试方法,其特征在于,所述a步骤中,所述相干光源通过准直器和起偏器进行准直和起偏处理。
4.根据权利要求1所述的晶体光学均匀性的测试方法,其特征在于,所述b步骤中,通过相位延迟器对检测光源发出的入射光进行调节入射光偏振方向与晶体轴向的位置关系。
5.根据权利要求1所述的晶体光学均匀性的测试方法,其特征在于,所述c步骤中,通过检偏器对待测晶体的入射光进过进行检偏,实现偏振干涉成像。
6.根据权利要求1所述的晶体光学均匀性的测试方法,其特征在于,所述d步骤中,利用成像接收器或视频信号接收器,对检偏后的偏正干涉像进行接收显示。
7.利用权利要求1~6任一项所述的晶体光学均匀性的测试方法的检测装置,其特征在于,包括沿轴线依次设置的相干光源发射器、准直器、起偏器、相位延迟器、晶体放置台、检偏器以及成像接收装置,其中,所述相干光源发射器用于发射光源;所述准直器用于对相干光源进行扩束和光场匀化;所述起偏器用于使相干光源成为完全的线偏振光源;所述相位延迟器用于调整相干光源发出的入射光的偏振态进行调节,所述晶体放置台放置台用于放置待检测晶体,所述检偏器用于对经过待检测的入射光进行检偏,实现偏振干涉成像,所述成像接收装置用于对检偏后的偏正干涉像进行接收显示。
8.根据权利要求7所述的晶体光学均匀性的检测装置,其特征在于,所述相干光源发射器为激光器或者单色仪装置。
9.根据权利要求8所述的晶体光学均匀性的检测装置,其特征在于,所述成像接收装置为成像接收器或视频信号接收器。
10.根据权利要求9所述的晶体光学均匀性的检测装置,其特征在于,所述准直器与起偏器之间还设置有可变光阑。
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